光刻膠介紹

光刻膠介紹

光刻膠(又稱光致抗蝕劑)，是指通過紫外光、準分子激光、電子束、離子束、x射線等光源的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻材料。光刻膠具有光化學敏感性，其經過曝光、顯影、刻蝕等工藝，可以將設計好的微細圖形從掩膜版轉移到待加工基片。因此光刻膠微細加工技術中的關鍵性化工材料，被廣泛應用于光電信息產業(yè)的微細圖形線路的加工制作。生產光刻膠的原料包括光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產酸劑）、光刻膠樹脂、單體和其他助劑等。

正性光刻膠

正性光刻膠

正性光刻膠也稱為正膠。正性光刻膠樹脂是一種叫做線性酚醛樹脂的酚醛甲醛，提供光刻膠的粘附性、化學抗蝕性，NR9 3000PY光刻膠，當沒有溶解存在時，線性酚醛樹脂會溶解在顯影液中，感光劑是光敏化合物，NR9 3000PY光刻膠哪里有，常見的是重氮萘醌（DNQ）。在曝光前，DNQ是一種強烈的溶解，NR9 3000PY光刻膠價格，降低樹脂的溶解速度。在紫外曝光后，DNQ在光刻膠中化學分解，成為溶解度增強劑，大幅提高顯影液中的溶解度因子至100或者更高。這種曝光反應會在DNQ中產生羧酸，它在顯影液中溶解度很高。正性光刻膠具有很好的對比度，所以生成的圖形具有良好的分辨率。

9，去膠:濕法去膠，NR9 3000PY光刻膠哪家好，用溶劑、用NONG硫酸。負膠，98%H2SO4 H2O2 膠=CO CO2 H2O，正膠：BIN酮，干法去膠（ash）氧氣加熱去膠O2 膠=CO CO2 H2O，等離子去膠Oxygenplasma ashing，高頻電場O2---電離O- O ，  O 活性基與膠反應CO2，CO， H2O， 光刻檢驗

賽米萊德-NR9 3000PY光刻膠由 北京賽米萊德貿易有限公司提供。 北京賽米萊德貿易有限公司堅持“以人為本”的企業(yè)理念，擁有一支高素質的員工隊伍，力求提供更好的產品和服務回饋社會，并歡迎廣大新老客戶光臨惠顧，真誠合作、共創(chuàng)美好未來。賽米萊德——您可信賴的朋友，公司地址：北京市北京經濟技術開發(fā)區(qū)博興九路2號院5號樓2層208，聯(lián)系人：蘇經理。