NH4Cl濃度對蝕刻的影響：從溶液再生的化學(xué)反應(yīng)式可以看出，[Cu(NH3)2]-的再生過程需要有大量的NH3-H2O和NH4Cl的存在，如果蝕刻機藥液缺乏NH4Cl，將使[Cu(NH3)2]-得不到再生，蝕刻速度就會降低，以至于失去蝕刻能力。所以，NH4Cl的含量對蝕刻速度影響很大。但是，溶液中Cl-含量過高會引起抗蝕層侵蝕，一般濃度控制在150g/L左右為宜。

溫度對蝕刻速度的影響：當(dāng)蝕刻溫度低于40℃時，蝕刻速度很慢，而蝕刻速率過慢會增大側(cè)蝕量，影響蝕刻精度。溫度高于60℃，蝕刻速率明顯加快，但氨的揮發(fā)量也大大增加，導(dǎo)致環(huán)境污染的同時使溶液中化學(xué)成分比例失調(diào)，故一般蝕刻機工作溫度控制在45℃~55℃為宜。

常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學(xué)溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

 早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣泛地被使用于減輕重量儀器鑲板，銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工;經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，亦可以用于航空、機械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工，大同標(biāo)牌雕刻機供應(yīng)商，特別在半導(dǎo)體制程上，數(shù)碼標(biāo)牌雕刻機供應(yīng)商，蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。

注意的問題：

減少側(cè)蝕和突沿，提高蝕刻系數(shù)

側(cè)蝕產(chǎn)生突沿。通常印制板在蝕刻液中的時間越長，(或者使用老式的左右搖擺蝕刻機)側(cè)蝕越嚴(yán)重。側(cè)蝕嚴(yán)重影響印制導(dǎo)線的精度，嚴(yán)重側(cè)蝕將使制作精細導(dǎo)線成為不可能。當(dāng)側(cè)蝕和突沿降低時，蝕刻系數(shù)就升高，高的蝕刻系數(shù)表示有保持細導(dǎo)線的能力，使蝕刻后的導(dǎo)線接近原圖尺寸。電鍍蝕刻抗蝕劑無論是錫-鉛合金，錫，錫-鎳合金或鎳，突沿過度都會造成導(dǎo)線短路。因為突沿容易斷裂下來，在導(dǎo)線的兩點之間形成電的橋接。

提高板子與板子之間蝕刻速率的一致性

在連續(xù)的板子蝕刻中，環(huán)保標(biāo)牌雕刻機供應(yīng)商，蝕刻速率越一致，越能獲得均勻蝕刻的板子。要達到這一要求，必須保證蝕刻液在蝕刻的全過程始終保持在佳的蝕刻狀態(tài)。這就要求選擇容易再生和補償，自動標(biāo)牌雕刻機供應(yīng)商，蝕刻速率容易控制的蝕刻液。選用能提供恒定的操作條件和對各種溶液參數(shù)能自動控制的工藝和設(shè)備。通過控制溶銅量，PH值，溶液的濃度，溫度，溶液流量的均勻性(噴淋系統(tǒng)或噴嘴以及噴嘴的擺動)等來實現(xiàn)。

以不銹鋼US304的浸蝕生產(chǎn)加工為主導(dǎo)蝕刻機中加上有機化學(xué)蝕刻液為：三氯化鐵化學(xué)方程式：FeCl3=FeCl3·6H2O一.蝕刻液好標(biāo)準(zhǔn)波美度：38°—42°藥液溫度：45°—50°PH值測量區(qū)段：1PH-3PH氧化物FeCl3二.水反映全過程三氯化鐵蝕刻液對不銹鋼的蝕刻是一個“空氣氧化---復(fù)原”全過程：1.氧化還原反應(yīng)：2FeCl3 Fe=3FeCl2三氯化鐵 不銹鋼 水=氯化亞鐵 家具板材蝕刻制成品 水 不銹鋼殘渣三.藥液降低的緣故及復(fù)原方法伴隨著化學(xué)變化的開展，蝕刻液減少，是由于三氯化鐵空氣氧化變成氯化亞鐵，這時必須將氯化亞鐵轉(zhuǎn)變成三氯化鐵提升藥液酸堿性。需添加溶液(氧化劑)﹑硫酸(緩聚劑)

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