刻蝕相對光刻要容易。光刻機把圖案印上去，然后刻蝕機根據(jù)印上去的圖案刻蝕掉有圖案（或者沒有圖案）的部分，留下剩余的部分。

“光刻”是指在涂滿光刻膠的晶圓（或者叫硅片）上蓋上事先做好的光刻板，然后用紫外線隔著光刻板對晶圓進行一定時間的照射。原理就是利用紫外線使部分光刻膠變質，易于腐蝕。

“刻蝕”是光刻后，用腐蝕液將變質的那部分光刻膠腐蝕掉（正膠），晶圓表面就顯出半導體器件及其連接的圖形。然后用另一種腐蝕液對晶圓腐蝕，形成半導體器件及其電路。

擴展資料：

光刻機一般根據(jù)操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動

1.手動：指的是對準的調節(jié)方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知不高了；

2.半自動：指的是對準可以通過電動軸根據(jù)CCD的進行定位調諧；

3.自動： 指的是 從基板的上載，曝光時長和循環(huán)都是通過程序控制，自動光刻機主要是滿足工廠對于處理量的需要。

蝕刻機電解型的，想來領域內的人群應當不生疏，較為常見。五金蝕刻設備廠家也按照銷售市場客戶滿意度，也是有幾種中、大中型的電解蝕刻機。經濟實惠、易實際操作、。

蝕刻機電解型的機理是運用金屬在以飲用水或水為蝕刻行為主體的藥液中產生陽極氧化融解（電解的效果下）將金屬開展蝕刻，接入蝕刻開關電源，進而做到蝕刻的目地。普遍的電解蝕刻機全是手動式自噴式的，而且全是以水為蝕刻水溶液，輸出功率有尺寸二種，大家便是這類。

它的優(yōu)勢：，濟寧蝕刻機報價，但僅有蝕刻一個流程是不可以的，別的工藝流程也務必，合適試驗生產制造、凹字小總面積蝕刻。關鍵用作科學研究試驗機，自動蝕刻機報價，或是簡易的在金屬上蝕刻標識，也稱之為電激光打標。

它的缺陷：蝕刻面不勻稱，大規(guī)模浸蝕速度比較慢，不可以用以批量生產，也無法做凸字大規(guī)模蝕刻，不可以用作標識牌的批量生產生產加工。因為電解蝕刻是在金屬導電性的情形下產生蝕刻的，那麼咱們的商品在蝕刻下來有一切的深層時側邊也將被蝕刻的，那樣許多細致圖案設計，細致文本將被蝕刻”爛“掉。

五金蝕刻設備廠家提議大伙兒購買時依據(jù)本身應用要求來挑選適合的

蝕刻速率：蝕刻速率慢會造成嚴重側蝕。蝕刻質量的提高與蝕刻速率的加快有很大關系。蝕刻速度越快，板子在蝕刻液中停留的時間越短，側蝕量越小，蝕刻出的圖形清晰整齊。

4)蝕刻液的PH值：堿性蝕刻液的PH值較高時，側蝕增大。峁見圖10-3為了減少側蝕，一般PH值應控制在8.5以下。

5)蝕刻液的密度：堿性蝕刻液的密度太低會加重側蝕，小型蝕刻機報價，見圖10-4，選用高銅濃度的蝕刻液對減少側蝕是有利的.

6)銅箔厚度：要達到側蝕的細導線的蝕刻，數(shù)碼蝕刻機報價，采用(超)薄銅箔。而且線寬越細，

銅箔厚度應越薄。因為，銅箔越薄在蝕刻液中的時間越短，側蝕量就越小。

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