【廣告】
5,顯影液
在已經(jīng)曝光的硅襯底膠面噴淋顯影液,或?qū)⑵浣菰陲@影液中,正膠是曝光區(qū)、而負(fù)膠是非曝光區(qū)的膠膜溶入顯影液,膠膜中的潛影顯現(xiàn)出來,形成三維圖像。
顯影完成后通常進(jìn)行工藝線的顯影檢驗(yàn),通常是在顯微鏡下觀察顯影效果,顯影是否、光刻膠圖形是否完好。
影響顯影的效果主要因素:
1,曝光時(shí)間,2前烘溫度和時(shí)間,3光刻膠膜厚,NR9 3000PY光刻膠廠家,4顯影液濃度溫度,5顯影液的攪動(dòng)情況。
四、對(duì)準(zhǔn)(Alignment)
光刻對(duì)準(zhǔn)技術(shù)是曝光前的一個(gè)重要步驟作為光刻的三大技術(shù)之一,一般要求對(duì)準(zhǔn)精度為細(xì)線寬尺寸的 1/7---1/10。隨著光刻分辨力的提高 ,對(duì)準(zhǔn)精度要求也越來越高 ,例如針對(duì) 45am線寬尺寸 ,對(duì)準(zhǔn)精度要求在5am 左右。
受光刻分辨力提高的推動(dòng) ,對(duì)準(zhǔn)技術(shù)也經(jīng)歷 迅速而多樣的發(fā)展 。從對(duì)準(zhǔn)原理上及標(biāo)記結(jié) 構(gòu)分類 ,對(duì)準(zhǔn)技術(shù)從早期的投影光刻中的幾何成像對(duì)準(zhǔn)方式 ,包括視頻圖像對(duì)準(zhǔn)、雙目顯微鏡對(duì)準(zhǔn)等,一直到后來的波帶片對(duì)準(zhǔn)方式 、干涉強(qiáng)度對(duì)準(zhǔn) 、激光外差干涉以及莫爾條紋對(duì)準(zhǔn)方式 。從對(duì)準(zhǔn)信號(hào)上分 ,主要包括標(biāo)記的顯微圖像對(duì)準(zhǔn) 、基于光強(qiáng)信息的對(duì)準(zhǔn)和基于相位信息對(duì)準(zhǔn)。
2,涂膠,在硅片覆蓋,NR9 3000PY光刻膠價(jià)格,旋轉(zhuǎn),離心力,在硅片表面通過旋轉(zhuǎn)的光刻膠,NR9 3000PY光刻膠,工藝參數(shù)3000-6000rpm 膠膜厚0.5-1um,
3,前烘,NR9 3000PY光刻膠多少錢,通過在較高溫度下進(jìn)行烘焙,使存底表面涂覆的光刻膠膜的溶劑揮發(fā),溶劑將至5%左右,同時(shí)增強(qiáng)與襯底的粘附性。前烘方法:熱平板傳導(dǎo),干燥循環(huán)熱風(fēng)提高附著力,紅外線輻射。
烘箱前烘條件:90-100度,10-20min,前烘時(shí)間與溫度應(yīng)適當(dāng),如太長或溫度太高,光刻膠層變脆而附著力下降,而前烘不足會(huì)影響后面的顯影效果。
企業(yè): 北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
手機(jī): 15201255285
電話: 010-63332310
地址: 北京市北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)博興九路2號(hào)院5號(hào)樓2層208