NR77-15000P

9，去膠:濕法去膠，用溶劑、用NONG硫酸。負膠，98%H2SO4 H2O2 膠=CO CO2 H2O，NR75 1000HP光刻膠，正膠：BIN酮，干法去膠（ash）氧氣加熱去膠O2 膠=CO CO2 H2O，等離子去膠Oxygenplasma ashing，高頻電場O2---電離O- O ，  O 活性基與膠反應(yīng)CO2，CO， H2O，NR75 1000HP光刻膠多少錢， 光刻檢驗

PR1-1000A1

NR9-3000PY 負性光刻膠

負膠 NR9-3000PY 被設(shè)計用于i 線（365 nm）曝光，可使用如步進光刻、掃描投影式光刻、接近式光刻

和接觸式光刻等工具。

顯影之后，NR75 1000HP光刻膠公司，NR9-3000PY 展現(xiàn)出一種倒梯形側(cè)壁，這可以方便地作單純的LIFT-OFF 處理。

NR9-3000PY 相對于其他光刻膠具有如下優(yōu)勢：

- 優(yōu)異的分辨率性能

- 快速地顯影

- 可以通過調(diào)節(jié)曝光能量很容易地調(diào)節(jié)倒梯形側(cè)壁的角度

- 耐受溫度100℃

- 室溫儲存保質(zhì)期長達3 年

Lift-Off工藝

應(yīng)用領(lǐng)域：LEDs，OLEDs，displays，MEMS，packaging，biochips。

濕法蝕刻，鍍 干法蝕刻（RIE/Ion Milling/Ion implantation）

附著力好Temperature resistance = 100°C 耐高溫Temperature resistance = 180°C

Resist Thickness NR9-3000PY 負性光刻膠

負膠 NR9-3000PY 被設(shè)計用于i 線（365

nm）曝光，NR75 1000HP光刻膠廠家，可使用如步進光刻、掃描投影式光刻、接近式光刻

和接觸式光刻等工具。

顯影之后，NR9-3000PY 展現(xiàn)出一種倒梯形側(cè)壁，這可以方便地作單純的LIFT-OFF 處理。

正膠PR1-2000A1技術(shù)資料

正膠PR1-2000A1是為曝光波長為365 或者436納米，可用于晶圓步進器、掃描投影對準(zhǔn)器、近程打印機和接觸式打印機等工具。PR1-2000A1可以滿足對附著能力較高的要求，在使用PR1-2000A1時一般不需要增粘劑，如HMDS。

相對于其他的光刻膠，PR1-2000A1有如下的一些額外的優(yōu)勢：

PEB，不需要后烘的步驟；

較高的分別率；

快速顯影；

較強的線寬控制；

蝕刻后去膠效果好；

在室溫下有效期長達2年。

NR75 1000HP光刻膠廠家-北京賽米萊德公司由 北京賽米萊德貿(mào)易有限公司提供。 北京賽米萊德貿(mào)易有限公司為客戶提供“光刻膠”等業(yè)務(wù)，公司擁有“賽米萊德”等品牌，專注于半導(dǎo)體材料等行業(yè)。，在北京市北京經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)博興九路2號院5號樓2層208的名聲不錯。歡迎來電垂詢，聯(lián)系人：蘇經(jīng)理。