此時(shí)要注意手不能直接接觸到器件鍍膜表面(可以用工具例如鑷子等，戴指套或橡膠手套)，大功率標(biāo)牌雕刻機(jī)設(shè)備，且擦拭時(shí)要順著一個(gè)方向。    主要部件保養(yǎng)建議（頻率視設(shè)備使用情況靈活調(diào)整）    1.出現(xiàn)異?，F(xiàn)象時(shí)，首先切斷一切電源，再進(jìn)行檢查；    2.機(jī)器應(yīng)該放在通風(fēng)的地方或恒溫室中，因?yàn)槌^(guò)某一溫度后，會(huì)影響激光器正常工作；    3.保持室內(nèi)及設(shè)備表面整潔干凈；    4.定期檢查各光學(xué)器件是否有污染，如有污染時(shí)清潔；    5.不要重壓升降平臺(tái)，防止精度降低；






離子植入：其是用來(lái)控制半導(dǎo)體中雜質(zhì)量的關(guān)鍵程序，對(duì)半導(dǎo)體表面附近區(qū)域進(jìn)行摻雜技術(shù)。優(yōu)點(diǎn)在于雜質(zhì)量的控制，雜質(zhì)分布的再重整，及低溫下操作。    離子植入機(jī)主要的供廠商為AMAT，中國(guó)部份只有中電科電子裝備公司能供應(yīng)。市場(chǎng)預(yù)計(jì)今明兩年中國(guó)離子植入機(jī)需求可達(dá)5億美元與7億美元。    沉積：PVD沉積為一種物理制程，此技術(shù)一般使用等惰性氣體，藉由在高真空中將離子以加速撞擊濺鍍靶材后，將靶材原子一個(gè)個(gè)濺擊出來(lái)，大功率標(biāo)牌雕刻機(jī)制作標(biāo)牌機(jī)器，使被濺擊出來(lái)的材質(zhì)沉積在晶圓表面。    薄膜沉積設(shè)備主要的供應(yīng)商包含應(yīng)用材料、Vaportech、LamResearch、ASM、Tokki等。而中國(guó)相關(guān)設(shè)備制造廠有北方華創(chuàng)、沈陽(yáng)拓荊等。北方華創(chuàng)是中國(guó)薄膜沉積設(shè)備，大功率標(biāo)牌雕刻機(jī)機(jī)械設(shè)備，目前技術(shù)已達(dá)到14nm。市場(chǎng)預(yù)計(jì)今明兩年中國(guó)薄膜沉積設(shè)備需求可達(dá)15億美元與20億美元。    測(cè)試：在晶圓完成制造之前，會(huì)有一道晶圓中測(cè)工序。在測(cè)試過(guò)程中，東營(yíng)大功率標(biāo)牌雕刻機(jī)，會(huì)檢測(cè)每一個(gè)芯片的電路功能。

根據(jù)金屬腐蝕機(jī)過(guò)程的分類為︰

   1、化學(xué)腐蝕是金屬和環(huán)境損害所產(chǎn)生直接的化學(xué)作用，無(wú)電流腐蝕過(guò)程中產(chǎn)生?；瘜W(xué)原因可能不導(dǎo)電。    2、電化學(xué)腐蝕電化學(xué)腐蝕金屬介質(zhì)中的電化學(xué)作用造成腐蝕電流破壞過(guò)程中產(chǎn)生。電化學(xué)腐蝕引起的媒體可以通過(guò)它的電流。耐腐蝕的金屬主要是電化學(xué)腐蝕。    根據(jù)金屬在環(huán)境造成的破壞或金屬腐蝕惡化的行動(dòng)。這里的環(huán)境是指物質(zhì)接觸金屬，例如空氣、土壤、水、生產(chǎn)用的原料、材料和產(chǎn)品。    金屬腐蝕機(jī)主要是由于這些物質(zhì)和化學(xué)或電化學(xué)引起的金屬。金屬的化學(xué)或電化學(xué)變化作金屬化合物生成與原金屬的成分和性質(zhì)完全不同的另一種物質(zhì)，尤其是作為木頭燒成木炭或二氧化碳。

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