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發(fā)展
Futurrex在開(kāi)發(fā)產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長(zhǎng)的歷史
我們的客戶一直在同我們共同合作,創(chuàng)造出了很多強(qiáng)勢(shì)的產(chǎn)品。
在晶體管(transistor) ,封裝,微機(jī)電。顯示器,OLEDs,波導(dǎo)(waveguides) ,VCSELS,
成像,電鍍,納米碳管,微流體,RR41光刻膠公司,芯片倒裝等方面。我們都已經(jīng)取得一系列的技術(shù)突破。
目前Futurrex有數(shù)百個(gè)技術(shù)在美國(guó)商標(biāo)局備案。
Futurrex 產(chǎn)品目錄
正性光刻膠
增強(qiáng)粘附性正性光刻膠
負(fù)性光刻膠
增強(qiáng)粘附性負(fù)性光刻膠
先進(jìn)工藝負(fù)性光刻膠
用于lift-off工藝的負(fù)性光刻膠
非光刻涂層
平坦化,RR41光刻膠價(jià)格,保護(hù)、粘接涂層
氧化硅旋涂(spin-on glas)
摻雜層旋涂
輔助化學(xué)品
邊膠清洗液
顯影液
去膠液
Futurrex所有光刻產(chǎn)品均無(wú)需加增粘劑(HMDS)
光刻膠京東方
事實(shí)上,我國(guó)是在缺乏經(jīng)驗(yàn)、缺乏技術(shù)人才,缺失關(guān)鍵上游原材料的條件下,全靠自己摸索。近年來(lái),盡管光刻膠研發(fā)有了一定突破,但國(guó)產(chǎn)光刻膠還是用不起來(lái)。目前,國(guó)外阻抗已達(dá)到15次方以上,而國(guó)內(nèi)企業(yè)只能做到10次方,滿足不了客戶工藝要求和產(chǎn)品升級(jí)的要求,RR41光刻膠報(bào)價(jià),有的工藝雖達(dá)標(biāo)了,但批次穩(wěn)定性不好。
“10次方的光刻膠經(jīng)過(guò)多次烘烤,由于達(dá)不到客戶需求的防靜電作用,不能應(yīng)用到新一代窄邊框等面板上。而國(guó)外做到15次方就有了很好的防靜電作用。這還是我們的光刻膠材料、配方、生產(chǎn)工藝方面存在問(wèn)題?!崩钪袕?qiáng)說(shuō)。
關(guān)鍵指標(biāo)達(dá)不到要求,國(guó)內(nèi)企業(yè)始終受制于人。就拿在國(guó)際上具有一定競(jìng)爭(zhēng)實(shí)力的京東方來(lái)說(shuō),目前已建立17個(gè)面板顯示生產(chǎn)基地,其中,RR41光刻膠,有16個(gè)已經(jīng)投產(chǎn)。但京東方用于面板的光刻膠,仍然由國(guó)外企業(yè)提供。
四、對(duì)準(zhǔn)(Alignment)
光刻對(duì)準(zhǔn)技術(shù)是曝光前的一個(gè)重要步驟作為光刻的三大技術(shù)之一,一般要求對(duì)準(zhǔn)精度為細(xì)線寬尺寸的 1/7---1/10。隨著光刻分辨力的提高 ,對(duì)準(zhǔn)精度要求也越來(lái)越高 ,例如針對(duì) 45am線寬尺寸 ,對(duì)準(zhǔn)精度要求在5am 左右。
受光刻分辨力提高的推動(dòng) ,對(duì)準(zhǔn)技術(shù)也經(jīng)歷 迅速而多樣的發(fā)展 。從對(duì)準(zhǔn)原理上及標(biāo)記結(jié) 構(gòu)分類(lèi) ,對(duì)準(zhǔn)技術(shù)從早期的投影光刻中的幾何成像對(duì)準(zhǔn)方式 ,包括視頻圖像對(duì)準(zhǔn)、雙目顯微鏡對(duì)準(zhǔn)等,一直到后來(lái)的波帶片對(duì)準(zhǔn)方式 、干涉強(qiáng)度對(duì)準(zhǔn) 、激光外差干涉以及莫爾條紋對(duì)準(zhǔn)方式 。從對(duì)準(zhǔn)信號(hào)上分 ,主要包括標(biāo)記的顯微圖像對(duì)準(zhǔn) 、基于光強(qiáng)信息的對(duì)準(zhǔn)和基于相位信息對(duì)準(zhǔn)。
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