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NR7 6000PY光刻膠-北京賽米萊德公司

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發(fā)布時間:2022-04-25 03:11  





光刻膠的成分

樹脂:光刻樹脂是一種惰性的聚合物基質(zhì) ,是用來將其他材料聚合在一-起的粘合劑。 光刻膠的粘附性、膠膜厚度等都是樹脂給的。

感光劑:感光劑是光刻膠的部分,他對光形式的輻射能,NR7 6000PY光刻膠價格,特別在紫外區(qū)會發(fā)生反應(yīng)。曝光時間、光源所發(fā)射光線的強(qiáng),度都根據(jù)感光劑的特性選擇決定的。

溶劑:光刻膠中容量較大的成分,感光劑和添加劑都是固體物質(zhì),為了方便均勻的涂覆,要將他們加入溶劑進(jìn)行溶解,NR7 6000PY光刻膠,形成液態(tài)物質(zhì),并且使之具有良好的流動性,可以通過選擇方式涂布在waf er表面。

添加劑:用以改變光刻膠的某些特性,NR7 6000PY光刻膠多少錢,如改善光刻膠發(fā)生反射而添加染色劑。

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含硅光刻膠

為了避免光刻膠線條的倒塌,線寬越小的光刻工藝,就要求光刻膠的厚度越薄。在20nm技術(shù)節(jié)點(diǎn),光刻膠的厚度已經(jīng)減少到了100nm左右。但是薄光刻膠不能有效的阻擋等離子體對襯底的刻蝕 [2]  。為此,研發(fā)了含Si的光刻膠,這種含Si光刻膠被旋涂在一層較厚的聚合物材料(常被稱作Underlayer),NR7 6000PY光刻膠報(bào)價,其對光是不敏感的。曝光顯影后,利用氧等離子體刻蝕,把光刻膠上的圖形轉(zhuǎn)移到Underlayer上,在氧等離子體刻蝕條件下,含Si的光刻膠刻蝕速率遠(yuǎn)小于Underlayer,具有較高的刻蝕選擇性 [2]  。含有Si的光刻膠是使用分子結(jié)構(gòu)中有Si的有機(jī)材料合成的,例如硅氧烷,含Si的樹脂等

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光刻膠的應(yīng)用

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模擬半導(dǎo)體(Analog Semiconductors)發(fā)光二極管(Light-Emitting Diodes LEDs)微機(jī)電系統(tǒng)(Microelectromechanical Systems MEMS)太陽能光伏(Solar Photovoltaics PV)微流道和生物芯片(Microfluidics & Biochips)光電子器件/光子器件(Optoelectronics/Photonics)封裝(Packaging)



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