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二、預(yù)烘和底膠涂覆(Pre-bake and Primer Vapor)
由于光刻膠中含有溶劑,所以對于涂好光刻膠的硅片需要在80度左右的。硅片脫水烘焙能去除圓片表面的潮氣、增強(qiáng)光刻膠與表面的黏附性、通常大約100 °C。這是與底膠涂覆合并進(jìn)行的。
底膠涂覆增強(qiáng)光刻膠(PR)和圓片表面的黏附性。廣泛使用: (HMDS)、在PR旋轉(zhuǎn)涂覆前HMDS蒸氣涂覆、PR涂覆前用冷卻板冷卻圓片。
問題回饋:
1.我們是LED制造商,麻煩推薦幾款可以用于離子蝕刻和Lift-off工藝的光刻膠。
A 據(jù)我所知,F(xiàn)uturrex
有幾款膠很,NR7-1500P
NR7-3000P是專門為離子蝕刻
設(shè)計的,NR9-3000PY可以用于Lift-off上的應(yīng)用。
2.請問有沒有可以替代goodpr1518,Micropure去膠液和goodpr顯影液的產(chǎn)品?
A 美國光刻膠,F(xiàn)uturrex
正膠PR1-2000A
, 去膠液RR4,和顯影液RD6可以解決以上問題。
3.你們是否有可以替代Shipley
S1805的用于DVD的應(yīng)用產(chǎn)品?
A 我們建議使用Futurrex
PR1-500A , 它有幾個優(yōu)點:比較好的解析度,比較好的線寬控制,
反射比較少,不需要HMDS,RIE后去除容易等~
4. 求助,耐高溫的光阻是那一種?
A Futurrex,NR74g 6000PY光刻膠廠家, NR7 serious(負(fù)光阻)Orpr1 serious(正光阻),再經(jīng)過HMCTS
silyiation process,可以達(dá)到耐高溫200度,PSPI透明polyimide,可耐高溫250度以上。
5.厚膜光阻在鍍金應(yīng)用上,用哪一種比較理想?
A Futurrex , NR4-8000P比干膜,和其他市面上的濕膜更加適合,和理想。
6.請教LIFT-OFF制程哪一種光阻適合?
A 可以考慮使用Futurrex
,正型光阻PR1,NR74g 6000PY光刻膠,負(fù)型光阻用NR1&NR7,NR74g 6000PY光刻膠報價,它們都可以耐高溫180度,完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。
7.請問,那位知道,RIE
Mask,用什么光阻比較好?
A 正型光阻用PR1系列,負(fù)型光阻使用NR5,兩種都可以耐高溫180度。
8.一般厚膜制程中,NR74g 6000PY光刻膠哪里有,哪一種光阻適合?
A NR9-8000P有很高的深寬比(超過4:1),一般厚膜以及,MEMS產(chǎn)品的高需求。
9.在DEEP
RIE和MASK 可以使用NRP9-8000P嗎?
A 建議不使用,因為使用NR5-8000更加理想和適合。
10.我們是OLED,我們有一種制程上需要一層SPACER,那種光阻適合?
A 有一種膠很適合,美國Futurrex
生產(chǎn)的NR1-3000PY
and和
NR1-6000PY,都適合在OLED制程中做spacers
光刻膠運輸標(biāo)識及注意事項
標(biāo)簽上標(biāo)明的意思
R標(biāo)識
R10 YI燃。
S標(biāo)識
S16 遠(yuǎn)離火源-禁止吸煙。
S 24 避免接觸皮膚。
S 33對靜電放電采取預(yù)防措施。
S 9 將容器保持在通風(fēng)良好的地方。
水生毒性
通過自然環(huán)境中的化學(xué)、光化學(xué)和微生物降解來分解。一般不通過水解降解。300 ppm對水生生物是安全的。鹵化反應(yīng)可能發(fā)生在水環(huán)境中。
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