PVD真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù)，在基材上形成薄膜的一種表面處理過(guò)程。與傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜方法相比，真空鍍膜有很多優(yōu)點(diǎn)：如對(duì)環(huán)境無(wú)污染，是綠色環(huán)保工藝；對(duì)操作者無(wú)傷害；膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強(qiáng)，膜厚均勻。真空鍍膜技術(shù)中經(jīng)常使用的方法主要有：蒸發(fā)鍍膜(包括電弧蒸發(fā)、電子蒸發(fā)、電阻絲蒸發(fā)等技術(shù))、濺射鍍膜(包括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術(shù))，這些方法統(tǒng)稱物理氣相沉積(PhysicalVaporDepoition)，簡(jiǎn)稱為PVD。

另一類是有機(jī)污物，表面鍍鈦加工服務(wù)，包括動(dòng)植物油脂、礦物油脂、混合油脂、熱粘附物及拋光膏殘?jiān)?。電鍍時(shí)，即使是微量的污物層殘留于表面，也會(huì)造成鍍層結(jié)合不牢及剝落等缺陷，所以污物層務(wù)必除凈，這一工序稱為除油。電鍍時(shí)，杞縣表面鍍鈦加工，基體不銹鋼屏風(fēng)和不銹鋼屏風(fēng)鍍層之間常因存在非不銹鋼的夾層而不能形成連續(xù)的結(jié)晶結(jié)構(gòu)，造成鍍層起泡或脫落等結(jié)合不良的缺陷。因此，必須清除氧化皮、銹及氧化物等變質(zhì)層。

首先陰極在離子源腔內(nèi)產(chǎn)生等離子體，然后通過(guò)兩三層陽(yáng)極柵將離子從等離子體腔中抽出。該離子源方向性強(qiáng)，離子能量帶寬集中，可廣泛應(yīng)用于真空鍍膜。缺點(diǎn)是陰極(通常是鎢絲)在反應(yīng)氣體中很快燒壞，離子通量有限，表面鍍鈦加工報(bào)價(jià)，可能會(huì)讓需要大離子通量的用戶不舒服?；魻栯x子源是一種陽(yáng)極，在強(qiáng)軸向磁場(chǎng)的作用下對(duì)過(guò)程氣體進(jìn)行等離子體處理。這種軸向磁場(chǎng)的強(qiáng)烈不平衡分離了氣體離子并形成離子束。由于軸向磁場(chǎng)太強(qiáng)，霍爾離子源的離子束需要補(bǔ)充電子來(lái)中和離子電流。常見(jiàn)的中和源是鎢絲(陰極)?；魻栯x子源的特征在于：

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