電子束鍍膜原理

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電子束蒸鍍是利用加速電子轟擊鍍膜材料，電子的動(dòng)能轉(zhuǎn)換成熱能使鍍膜材料加熱蒸發(fā)，并成膜。電子有直射式、環(huán)型和E型之分。電子束加熱蒸鍍的特點(diǎn)是能獲得極高的能量密度，可達(dá)109w/cm2，加熱溫度可達(dá)3000～6000℃，可以蒸發(fā)難熔金屬或化合物;被蒸發(fā)材料置于水冷的坩堝中，可避免坩堝材料的污染，分子束外延設(shè)備，制備高純薄膜；另外，由于蒸發(fā)物加熱面積小，因而熱輻射損失減少，熱效率較高。但結(jié)構(gòu)較復(fù)雜，且對(duì)較多的化合物，由于電子的轟擊有可能分解，故不適合多數(shù)化合物的蒸鍍。

電子束鍍膜機(jī)部件介紹

鍍膜室：

采用立式、前開門結(jié)構(gòu)，外壁通冷卻水。鍍膜室尺寸Φ450×H600 mm。在腔室內(nèi)壁上安裝有可拆卸的內(nèi)襯防護(hù)擋板一塊（材質(zhì)：304真空不銹鋼， 厚度≥1 mm），鍍膜室及前開門材質(zhì)：304真空不銹鋼，分子束外延設(shè)備價(jià)格，鍍膜室所有焊縫連接均采用弧焊自動(dòng)焊接技術(shù)；焊接完成后，分子束外延設(shè)備公司，鍍膜室（包括抽氣管道、連接法蘭等）均進(jìn)行內(nèi)表面拋光，外表面噴砂、噴丸、電拋三項(xiàng)處理，以減少出氣量。

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電子束鍍膜機(jī)的特點(diǎn)/用途介紹

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產(chǎn)品特點(diǎn)/用途：

?設(shè)備一體化設(shè)計(jì)，占地面積小，性能穩(wěn)定，分子束外延設(shè)備報(bào)價(jià)，高，使用維護(hù)成本低；

?適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、有機(jī)膜，也可用于生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等；

?適用于制備光學(xué)薄膜、導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜等。

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