光刻膠的應用

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模擬半導體（Analog Semiconductors）發(fā)光二極管（Light-Emitting Diodes LEDs）微機電系統(tǒng)（Microelectromechanical Systems MEMS）太陽能光伏（Solar Photovoltaics PV）微流道和生物芯片（Microfluidics & Biochips）光電子器件/光子器件（Optoelectronics/Photonics）封裝（Packaging）

硅片模具加工如何選擇光刻膠呢？

注意事項：

①若腐蝕液為堿性，則不宜用正性光刻膠；

②看光刻機型式，若是投影方式，用常規(guī)負膠時氮氣環(huán)境可能會有些問題

③負性膠價格成本低，正性膠較貴；

④工藝方面：負性膠能很好地獲得單根線，而正性膠可獲得孤立的洞和槽；

⑤健康方面：負性膠為有機溶液處理，不利于環(huán)境；正性膠屬于水溶液，對健康、環(huán)境無害。

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光刻膠的參數是什么？

分辨率、對比度和敏感度是光刻膠的技術參數。隨著集成電路的發(fā)展，NR21 20000P光刻膠廠家，芯片制造特征尺寸越來越小，NR21 20000P光刻膠哪家好，對光刻膠的要求也越來越高。光刻膠的技術參數包括分辨率、對比度和敏感度等。為了滿足集成電路發(fā)展的需要，NR21 20000P光刻膠，光刻膠朝著高分辨率、高對比度以及高敏感度等方向發(fā)展。

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