滾鍍金實際是低金離子的qinghua滾鍍金液，由于金離子的濃度很低，作為絡合劑的qinghua鉀濃度較高，使金不易在銅上置換，一般滾鍍金液中qinghua銀1.5g/L～3g/L，qinghua鉀70g/L～90g/L。也可將常規(guī)鍍銀液取出一些，稀釋后加qinghua鉀來配制，局部滾鍍金廠商，使銅件浸入鍍液時不會置換金而在通電后才能鍍上滾鍍金層。改善滾鍍金的結合力。局部滾鍍金


滾鍍金工藝能發(fā)生鈀20%、鎳80%的鎳鈀合金鍍層，鍍層白而亮，柔軟，依工藝條件，鍍層可達10μm。鍍層用作底層，局部滾鍍金工廠，可作為阻止金屬遷入上層。工藝合適掛鍍、滾鍍。

整理器：

　　標準DC電鍍電源，波紋小于5%，電流輸出足以出產操作，應裝備伏特表，安培表和用于準確調節(jié)的接連控制器。較好裝備一個本分儀。

陽極：

　　用不溶性陽極，鉑鈦陽極的面積足以供給較大為0.3A/dm2的陽極電流密度，也能用石墨陽極，可是，為防止雜質，應運用沒有在其它鍍液中運用過的新石墨陽極。

局部滾鍍金


滾鍍和脈沖鍍生產工藝對比　?、贊L鍍時通過調整轉速來控制零件與滾桶壁之間的相對錯動速度，來改變弧線部分的導通時間、頻率，通過孔眼直徑、孔眼中心距來控制占空比。對于確定的滾桶來說，孔眼直徑和孔眼中心距已固定不變，韶關局部滾鍍金，所以占空比不會改變，也不能調整。②滾鍍和脈沖鍍在深鍍能力上不理想，滾鍍金哪里實惠，電流效率較低。例如，局部滾鍍金哪家好，某些深孔、盲孔鍍件的內壁不易鍍好，但分散能力好，能形成較均勻的鍍層。局部滾鍍金


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