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PLD450型脈沖激光鍍膜介紹
沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——脈沖激光沉積供應(yīng)商,脈沖激光沉積裝置價(jià)格,我們?yōu)槟鷰?lái)以下信息。
主要用途:
用于制備超導(dǎo)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。適用于各大專院校、科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研與小批量制備?! ?/p>
系統(tǒng)組成:
主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成?! ?/p>
脈沖激光沉積介紹
脈沖激光沉積,是一種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材,生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的之處是能量源(脈沖激光)位于真空室的外面。這樣,在材料合成時(shí),脈沖激光沉積裝置,工作壓力的動(dòng)態(tài)范圍很寬,達(dá)到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過(guò)控制鍍膜壓力和溫度,可以合成一系列具有功能的納米結(jié)構(gòu)和納米顆粒。
另外,脈沖激光沉積裝置報(bào)價(jià),PLD 是一種“數(shù)字”技術(shù),在納米尺度上進(jìn)行工藝控制(A°/pulse)。
沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司以誠(chéng)信為首 ,服務(wù)至上為宗旨。公司生產(chǎn)、銷售脈沖激光沉積,公司擁有強(qiáng)大的銷售團(tuán)隊(duì)和經(jīng)營(yíng)理念。想要了解更多信息,趕快撥打圖片上的熱線電話!
脈沖激光沉積原理
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脈沖激光沉積原理:在真空環(huán)境下利用脈沖激光對(duì)靶材表面進(jìn)行轟擊,利用激光產(chǎn)生的局域熱量將靶材物質(zhì)轟擊出來(lái),再沉積在不同的襯底上,從而形成薄膜。
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