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光刻膠的組成
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樹脂( resin/polymer),光刻膠中不同材料的粘合劑,給與光刻膠的機械與化學性質(zhì)( 如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等);感光劑,感光劑對光能發(fā)生光化學反應(yīng);溶劑(Solvent),保持光刻膠的液體狀態(tài),使之具有良好的流動性;添加劑( Additive ),用以改變光刻膠的某些特性,如改善光刻膠發(fā)生反射而添加染色劑等。負性光刻膠。樹脂是聚異戊二烯,一-種天然的橡膠;溶劑是;感光劑是一種經(jīng)過曝光后釋放出氮氣的光敏劑,產(chǎn)生的自由基在橡膠分子間形成交聯(lián)。從而變得不溶于顯影液。負性光刻膠在曝光區(qū)由溶劑引起泡漲;曝光時光刻膠容易與氮氣反應(yīng)而抑制交聯(lián)。
光刻膠
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1959 年被發(fā)明以來就成為半導體工業(yè)的工藝材料之一。隨后光刻膠被改進運用到印制電路板的制造工藝,成為 PCB 生產(chǎn)的重要材料。
二十世紀 90 年代,云南光刻膠,光刻膠又被運用到平板顯示的加工制作,對平板顯示面板的大尺寸化、高精細化、彩色化起到了重要的推動作用。
在半導體制造業(yè)從微米級、亞微米級、深亞微米級進入到納米級水平的過程中,光刻膠也起著舉足輕重的作用。
總結(jié)來說,光刻膠哪里有,光刻膠產(chǎn)品種類多、性強,需要長期技術(shù)積累,對企業(yè)研發(fā)人員素質(zhì)、行業(yè)經(jīng)驗、技術(shù)儲備等都具有極高要求,企業(yè)需要具備光化學、有機合成、高分子合成、精制提純、微量分析、性能評價等技術(shù),具有極高的技術(shù)壁壘。
光刻膠市場情況
目前光刻膠市場基本被日本和美國企業(yè)所壟斷。光刻膠屬于高技術(shù)壁壘材料,生產(chǎn)工藝復雜,純度要求高,需要長期的技術(shù)積累。日本的JSR、東京應(yīng)化、信越化學及富士電子四家企業(yè)占據(jù)了70%以上的市場份額,處于市場壟斷地位。
光刻膠市場需求逐年增加,2018年半導體光刻膠銷售額12.97億美元。隨著下游應(yīng)用功率半導體、傳感器、存儲器等需求擴大,未來光刻膠市場將持續(xù)擴大。
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