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二、預(yù)烘和底膠涂覆(Pre-bake and Primer Vapor)
由于光刻膠中含有溶劑,所以對于涂好光刻膠的硅片需要在80度左右的。硅片脫水烘焙能去除圓片表面的潮氣、增強(qiáng)光刻膠與表面的黏附性、通常大約100 °C。這是與底膠涂覆合并進(jìn)行的。
底膠涂覆增強(qiáng)光刻膠(PR)和圓片表面的黏附性。廣泛使用: (HMDS)、在PR旋轉(zhuǎn)涂覆前HMDS蒸氣涂覆、PR涂覆前用冷卻板冷卻圓片。
11.請教~有沒有同時(shí)可以滿足RIE
process 和Lift-off
process的光阻,謝謝!
A 我們推薦使用Futurrex
NR1-300PY來滿足以上工藝的需求。
12.Futurre光刻膠里,有比較容易去除的負(fù)光阻嗎?
A NR9-系列很容易去除,可以滿足去膠需要。
13.我們目前用干膜做窄板,解析度不夠,希望找到好的替代光阻?
A NR9-8000因?yàn)橛泻芨叩腁R比例,適合取代,在凸塊的應(yīng)用上也有很大的好處。
14.傳統(tǒng)的Color
filter 制程,每個(gè)顏色的烘烤時(shí)間要2-3個(gè)小時(shí),有沒有更快的方法制作Coior
filter?
A 用于Silylation制程------烘烤時(shí)間只需要2分鐘,同時(shí)光阻不需要Reflow, 顏色也不會老化改變,只需要在Filter上面加熱溶解PR1-2000S光阻,Microlenses就能形成!
15.請問有專門為平坦化提供材料的公司嗎?
A 美國Futurrex公司,專門生產(chǎn)應(yīng)用化學(xué)品的,NR9 3000PY光刻膠,可以為平坦化的材料提供PC3-6000和PC4-1000都是為平坦化用途設(shè)計(jì),臺灣企業(yè)用的比較多。
16.我需要一種可用于鋼板印刷的方式來涂布PROTECTIVE
COATING,那種適合??
A 推薦美國Futurrex,NR9 3000PY光刻膠哪家好,PC4-10000。
17.臘是用來固定芯片的,但很難清洗干凈,NR9 3000PY光刻膠多少錢,哪里有可以替代的產(chǎn)品介紹下,謝謝?
A 我們公司是使用Futurrex
PC3-6000,可以替代的,而且去除比較容易,你可以試用下。
18.請問有沒有100微米厚襯底為鍍鎳硅并可用與MEMS應(yīng)用的光刻膠嗎?
A NR4-8000P可以做到140微米的厚度,并在鍍鎳的襯底上不會出現(xiàn)難去膠的問題,如果是其他非鍍鎳襯底NR9-8000P是適合的選擇。
19.誰有用在光波導(dǎo)圖案的光刻膠?是否可以形成角度為30度的側(cè)壁?
A 你必須實(shí)現(xiàn)通過逐步透光來實(shí)現(xiàn)掩膜圖案棱的印刷,NR4-8000P是專門為光波導(dǎo)圖案應(yīng)用進(jìn)行設(shè)計(jì)的產(chǎn)品。
四、對準(zhǔn)(Alignment)
光刻對準(zhǔn)技術(shù)是曝光前的一個(gè)重要步驟作為光刻的三大技術(shù)之一,一般要求對準(zhǔn)精度為細(xì)線寬尺寸的 1/7---1/10。隨著光刻分辨力的提高 ,對準(zhǔn)精度要求也越來越高 ,例如針對 45am線寬尺寸 ,對準(zhǔn)精度要求在5am 左右。
受光刻分辨力提高的推動(dòng) ,NR9 3000PY光刻膠哪里有,對準(zhǔn)技術(shù)也經(jīng)歷 迅速而多樣的發(fā)展 。從對準(zhǔn)原理上及標(biāo)記結(jié) 構(gòu)分類 ,對準(zhǔn)技術(shù)從早期的投影光刻中的幾何成像對準(zhǔn)方式 ,包括視頻圖像對準(zhǔn)、雙目顯微鏡對準(zhǔn)等,一直到后來的波帶片對準(zhǔn)方式 、干涉強(qiáng)度對準(zhǔn) 、激光外差干涉以及莫爾條紋對準(zhǔn)方式 。從對準(zhǔn)信號上分 ,主要包括標(biāo)記的顯微圖像對準(zhǔn) 、基于光強(qiáng)信息的對準(zhǔn)和基于相位信息對準(zhǔn)。
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