ICP刻蝕機的測量與控制

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由于等離子刻蝕工藝中的過程變量，如刻蝕率、氣壓、溫度、等離子阻抗，等等，不易測量，因此業(yè)界常用的測量方法有：

虛擬測量（Virtual Metrology） 

等離子刻蝕過程控制示意圖

光譜測量

等離子阻抗監(jiān)控

終端探測

遠程耦合傳感

控制方法

run-to-run 控制（R2R） 

模型預(yù)測控制（MPC）

人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)控制

化學(xué)氣相沉積法在金屬材料方面的使用

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鈀的化學(xué)氣相沉積Pd 及其合金對氫氣有著極強的吸附作用以及特別的選擇滲透性能，等離子化學(xué)氣相沉積設(shè)備，是一種存儲或者凈化氫氣的理想材料。對于Pd 的使用大多是將鈀合金或是鈀鍍層生產(chǎn)氫凈化設(shè)備 。也有些學(xué)者使用化學(xué)氣相沉積法將鈀制成薄膜或薄層。具體做法是使用分解溫度極低的金屬有機化合物當(dāng)做制備鈀的材料，具體包括：烯丙基Pd（η-C3H5） （η-C5H5）以及 Pd（η-C3H5）（CF3COCHCOCF3）之類的材料，使用這種方式能夠制取出純度很高的鈀薄膜。

物理氣相沉積和化學(xué)氣相沉積的區(qū)別

化學(xué)氣相沉積過程中有化學(xué)反應(yīng)，等離子化學(xué)氣相沉積設(shè)備多少錢，多種材料相互反應(yīng)，生成新的的材料。

物理氣相沉積中沒有化學(xué)反應(yīng)，材料只是形態(tài)有改變。

物理氣相沉積技術(shù)工藝過程簡單，對環(huán)境改善，無污染，耗材少，成膜均勻致密，等離子化學(xué)氣相沉積設(shè)備哪家好，與基體的結(jié)合力強。

化學(xué)雜質(zhì)難以去除。優(yōu)點可造金屬膜、非金屬膜，又可按要求制造多成分的合金膜，成膜速度快，膜的繞射性好

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沈陽鵬程公司-等離子化學(xué)氣相沉積設(shè)備哪家好由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司提供。沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司位于沈陽市沈河區(qū)凌云街35號。在市場經(jīng)濟的浪潮中拼博和發(fā)展，目前沈陽鵬程在化工設(shè)備配件中享有良好的聲譽。沈陽鵬程取得全網(wǎng)商盟認(rèn)證，標(biāo)志著我們的服務(wù)和管理水平達到了一個新的高度。沈陽鵬程全體員工愿與各界有識之士共同發(fā)展，共創(chuàng)美好未來。