脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積也被稱(chēng)為脈沖激光燒蝕（pulsed laser ablation，PLA），是一種利用激光對(duì)物體進(jìn)行轟擊，然后將轟擊出來(lái)的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。

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常規(guī)沉積條件下的組合合成

脈沖激光沉積系統(tǒng)特點(diǎn)及優(yōu)勢(shì)：

可根據(jù)客戶(hù)需求定制產(chǎn)品，靈活性高，并提供的技術(shù)支持；靶臺(tái)可以安裝6個(gè)靶位，脈沖激光沉積設(shè)備價(jià)格，靶材更換靈活；樣品臺(tái)樣品尺寸從10x10mm樣品到2英寸樣品均適用；進(jìn)樣室可以存儲(chǔ)多個(gè)靶和樣品；交易過(guò)程無(wú)需繁瑣的進(jìn)、出關(guān)手續(xù)， 交貨期短，脈沖激光沉積設(shè)備哪家好，高；

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PLD 主要選件

離子輔助沉積 (IBAD)系統(tǒng)介紹

離子輔助沉積已經(jīng)成為在無(wú)規(guī)取向的基片或無(wú)定形基片上沉積雙軸結(jié)構(gòu)薄膜的一種重要技術(shù)。Neocera 開(kāi)發(fā)了離子輔助的PLD 系統(tǒng)，該系統(tǒng)將PLD 在沉積復(fù)雜材料方面的優(yōu)勢(shì)與IBAD 能力結(jié)合在一起。

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