主要用途:氨的主要用途是氮肥、制冷劑、化工原料。

無機方面主要用于制氨水、液氨、氮肥（尿素、碳銨等）、、銨鹽、純堿。

有機方面廣泛應(yīng)用于合成纖維、塑料、染料、尿素等。

主要制法:合成氨的工藝分類：低壓法、中壓法、高壓法。

幾種合成氨的工藝流程：

美國 KBR 工藝  

KBR 工藝一般多用在以為原料的大型合成氨裝置中，也在煤化工中被廣泛應(yīng)用，采用臥式徑向流氨合成塔內(nèi)件，組合氨冷系統(tǒng)制冷。

凈化裝置出口的氫氣與來自空分獲得的高純度氮爾比3：1進行混合，混合后的合成氣在合成氣壓縮機內(nèi)壓縮到15.5MPa，進料與產(chǎn)物進行換熱預(yù)熱，然后進入合成反應(yīng)器。出氨合成塔的反應(yīng)氣溫度約 441.5 ℃，高純氨氣批發(fā)價，氨含量體積分數(shù)約 20.3%。塔出口的熱量用于副產(chǎn)蒸汽或預(yù)熱鍋爐給水，回收熱量后的氣體進入熱交換器預(yù)熱合成氣壓縮機出口氣體，再經(jīng)水冷器、組合式氨冷器終冷卻至0 ℃后進入氨分離器分離冷凝的液氨。分氨后的循環(huán)氣經(jīng)組合式氨冷器回收冷量后進入壓縮機循環(huán)段與新鮮氣匯合，廣西高純氨氣，重復(fù)上述循環(huán)。氨分離器分離出的液氨進入閃蒸槽，通過減壓閃蒸出溶解的氣體。閃蒸后的液氨送往冷凍工段，閃蒸出來的氣體送往燃料氣管網(wǎng)。

高純氨應(yīng)用原理是什么？

【1】  Ga(CH3)3 NH3 → GaN 4CH4；

這個反應(yīng)是制造發(fā)光二極管（LED）外延芯片的氮化的基 礎(chǔ)，反應(yīng)在昂貴的 MOCVD （有機金屬氣相沉積）設(shè)備上完成。

【2】  3SiH4 4NH3→ Si3N4 12H2；

這個反應(yīng)是制造氮化硅（Si3N4 ）的基礎(chǔ)，高純氨氣價格，由（SiH4 ）和高純氨在較高溫度下，在化學氣相沉積（CVD）設(shè)備中進行反應(yīng)，此反應(yīng)也需要相當數(shù)量的高純氨氣。

使用高純氨氣前，應(yīng)給氨氣管道進行氮氣試壓、氦氣保壓及肥皂水試漏，確保氨氣管道不泄露。使用高純氨氣前，應(yīng)給氨氣管道進行氮氣試壓、氦氣保壓及肥皂水試漏，確保氨氣管道不泄露。工作環(huán)境保持通風。需要有2人同時操作，以應(yīng)對突發(fā)狀況。氨氣鋼瓶瓶頸上有鋼瓶檢驗時間，不符合要求的鋼瓶應(yīng)委托譜源氣體等經(jīng)銷商到有資質(zhì)的壓力容器檢驗單位進行檢驗。嚴禁使用過去鋼瓶。

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