脈沖激光沉積系統(tǒng)配置介紹

想要了解更多脈沖激光沉積的相關內(nèi)容，請及時關注沈陽鵬程真空技術有限責任公司網(wǎng)站。

脈沖激光沉積系統(tǒng)配置：

生長室，進樣室可選水平、垂直兩種靶臺可選激光加熱和輻射加熱兩種樣品臺可選，激光加熱高的溫度1200℃工藝氣路可以任意搭配配備高壓RHEED，工作氣壓可達100Pa可預留法蘭，脈沖激光沉積裝置多少錢，用于LEED，K-Cell， E-beam等其它可選項如臭氧發(fā)生器，脈沖激光沉積裝置，離子源，掩膜系統(tǒng)等。

脈沖激光沉積機制

沈陽鵬程真空技術有限責任公司生產(chǎn)、銷售脈沖激光沉積，我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。

PLD的系統(tǒng)設備簡單，相反，它的原理卻是非常復雜的物理現(xiàn)象。它涉及高能量脈沖輻射沖擊固體靶時，脈沖激光沉積裝置廠家，激光與物質(zhì)之間的所有物理相互作用，亦包括等離子羽狀物的形成，其后已熔化的物質(zhì)通過等離子羽狀物到達已加熱的基片表面的轉移，及膜的生成過程。所以，PLD一般可以分為以下四個階段：

1. 激光輻射與靶的相互作用

2. 熔化物質(zhì)的動態(tài)

3. 熔化物質(zhì)在基片的沉積

4. 薄膜在基片表面的成核（nucleation）與生成。

脈沖激光沉積的原理

脈沖激光沉積原理：在真空環(huán)境下利用脈沖激光對靶材表面進行轟擊，利用激光產(chǎn)生的局域熱量將靶材物質(zhì)轟擊出來，再沉積在不同的襯底上，從而形成薄膜。

脈沖激光沉積技術適合做的薄膜包括各種多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，脈沖激光沉積裝置哪家好，金屬薄膜，磁性材料等。

以上就是關于脈沖激光沉積的相關內(nèi)容介紹，如有需求，歡迎撥打圖片上的熱線電話！

脈沖激光沉積裝置廠家-沈陽鵬程真空技術-脈沖激光沉積裝置由沈陽鵬程真空技術有限責任公司提供。沈陽鵬程真空技術有限責任公司堅持“以人為本”的企業(yè)理念，擁有一支高素質(zhì)的員工隊伍，力求提供更好的產(chǎn)品和服務回饋社會，并歡迎廣大新老客戶光臨惠顧，真誠合作、共創(chuàng)美好未來。沈陽鵬程——您可信賴的朋友，公司地址：沈陽市沈河區(qū)凌云街35號，聯(lián)系人：董順。