300型非自耗電弧爐　　

主要用途：

適用于高校、科研院所及企業(yè)進行真空冶金新材料電弧法制備大塊非晶材料。　

系統(tǒng)組成:　　

真空機組，熔煉電源、氣路、水冷系統(tǒng)、電控系統(tǒng)及安裝臺等組成?！　?/p>

技術(shù)指標：

雙層水冷真空室，尺寸φ280mmX300mm　　

真空系統(tǒng)配置:機械泵 分子泵　

極限壓力 (Pa):電弧熔煉室≤5.0x10-4Pa　　

熔煉電流:長期工作電流200-400A　　

熔煉坩堝　　有五個工位 (半球窩SR25) ，　　

四個熔煉合金工位　　一個熔煉除氣工位?！　　?/p>

引弧方式:高頻引弧

真空電弧爐機組介紹

真空機組通常以羅茨泵或油增壓泵為主， 配以前級機械泵。從熔煉工藝和安全要求出發(fā)，直流電弧爐報價，真空機組應(yīng)能保證爐內(nèi)工作壓力不超過10 Pa(通常在0.1～1 Pa范圍內(nèi))。光學觀察裝置用來觀察爐內(nèi)的熔煉過程。也有采用工業(yè)電視系統(tǒng)的?？刂葡到y(tǒng)中主要是電極自動調(diào)節(jié)器， 用來控制電弧長度使電弧功率和熔化過程穩(wěn)定。采用計算機過程控制系統(tǒng)，一個人可管理幾臺爐子。直流電源多采用硅整流裝置， 工作電壓20～40V， 空載電壓約為80 V， 工作電流每100 mm (直徑)結(jié)晶器為1600～3500 A， 電流可作大范圍 (約10：1)調(diào)節(jié)。電源應(yīng)具有恒流特性，短路電流應(yīng)不超過額定電流的1.2倍。自耗爐的熔化電耗在500～1100 kW·h/t范圍內(nèi)。

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電弧爐設(shè)備的組成

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以真空自耗電弧爐為例說明如下。成套設(shè)備由爐體、水冷銅坩堝、真空機組、光學觀察裝置、控制系統(tǒng)、直流電源等部分組成， 如圖所示。爐體由爐殼、上下端蓋、電極桿及其升降機構(gòu)、爐架等組成。電極桿與上端蓋間有滑動密封裝置，桿的下端接自耗電極、上端連升降機構(gòu)。爐體下端接坩堝。坩堝通常做成圓筒形，分內(nèi)外兩層，分別用銅和不銹鋼制造，中間可通水冷卻。熔煉時，金屬熔滴滴入坩堝后先形成熔池，然后逐漸冷凝結(jié)晶成錠子。因此這種坩堝又叫水冷銅結(jié)晶器。還有一種坩堝呈半球形，有澆注口，可傾倒。熔煉時，其內(nèi)面會結(jié)上一層由被熔金屬本身冷凝成的殼體。采用這種坩堝的爐子用來在真空中澆制鑄件， 又叫凝殼爐或殼式真空電弧熔鑄爐。 

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