硅片的化學(xué)機(jī)械拋光過程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過程，要獲得質(zhì)量好的拋光片，必須使拋光過程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到-種平衡。

如果化學(xué)腐蝕作用大于機(jī)械拋光作用，則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機(jī)械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用，則表面產(chǎn)生高損傷層。

制備高濃度的氧化拋光液想要優(yōu)異的拋光效果，必須要氧化粉在拋光液體系中，具備非常好的懸浮性.分散性，金華拋光布，否則如果分散性不好，容易導(dǎo)致有大

顆粒，拋光布怎么用，或者懸浮性不好，都會(huì)影響拋光的效果，嚴(yán)重的話會(huì)損壞機(jī)器，拋光布原理，因此做好氧化拋光液粉體的懸浮性和分散性需要加入特定的分散劑或者懸浮劑來

解決這個(gè)難題。

鍍衣金剛石微粉

鍍衣金剛石是利用先進(jìn)的化學(xué)鍍和復(fù)合鍍工藝，通過表面處理使金剛石表面鍍覆上- -層金屬，進(jìn)而增加金剛石在切削、打磨工具中的附著力，延長工具使

用壽命。

主要應(yīng)用于各種金剛石制品:

(1)機(jī)加工領(lǐng)域里的車刀、銼刀、鋸片.鉆頭等等;

(2)電氣電子工業(yè)中石墨.碳精材料的切割、成型;

(3)增強(qiáng)塑料、硅片、玻璃的切割打磨工具;

(4)用于各種寶石、碧玉、陶瓷等工藝美術(shù)品雕琢磨花的電鍍金剛石磨頭等。

用于CMP的拋光墊必須具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性(耐腐蝕性)、親水性以及機(jī)械力學(xué)特性。拋光墊通?？煞譃橛操|(zhì)和軟質(zhì)(彈性、粘彈性)兩種。

硬質(zhì)拋光墊可較好地保證工件表面的平面度

軟質(zhì)拋光墊可獲得加工變質(zhì)層和表面粗糙度都很小的拋光表面

用于CMP過程的硬質(zhì)拋光墊有各種粗布?jí)|、纖維織物墊、聚乙烯墊等，軟質(zhì)拋光墊主要有聚氨酯墊、細(xì)毛氈墊、各種絨毛布?jí)|等。拋光皮

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