潔凈技術方向發(fā)展空氣分子污染

潔凈技術方向發(fā)展空氣分子污染（Airborne Molecular Contaminants，AMC）作為IC工廠所關心的問題于20年前由日本人提出，近年來，世界IC技術發(fā)展迅速，IC芯片日益微型化。AMC對當前的IC生產其潛在的污染比粒子污染要廣泛多，粒子污染控制只需要確定粒徑及個數(shù)，但對AMC控制而言，除了受芯片線寬的縮小而變化外，并受工藝、工藝設備、工藝材料及傳送系統(tǒng)等的影響。更有甚者用于某一工序的各種工藝材料（化學品、特種氣體等）在很多情況下其微量的分子殘余對下一工序往往可能就是污染物。因此，IC生產過程中的某些加工工序及工序間的材料傳送和存放環(huán)境中，AMC已成為嚴重影響成品率的重要問題，AMC分子控制技術成為潔凈工程設計與施工建設的主流趨勢。目前，國內的潔凈工程企業(yè)中已經開始從事此方向的研究，在該領域比較的企業(yè)有亞翔集成，在分子凈化技術方面該公司已經走在了同行業(yè)的前列，而中國電子工程設計院則在防微震方面。

發(fā)展在過去我國的潔凈技術和設備與國外先進國家相比差距是明顯的

發(fā)展在過去我國的潔凈技術和設備與國外先進國家相比差距是明顯的，我國1965年才開始生產的HEPA過濾器，比國外了十五年。1975年開始生產的光散射塵埃粒子計數(shù)器比國外晚了二十年。0.1微米潔凈技術和設備在國際上先進國家已成為成熟技術，我國則剛剛起步。在潔凈室建設規(guī)模和技術水平上，我國與先進國家差距更大。日本清水建設公司一家，1982年到1987年期間承建的潔凈室面積達71.8萬平方米，天津潔凈車間安裝，而我國目年承建的潔凈室總面積還不到10萬平方米，但八五期間有較大發(fā)展，1993年承建潔凈室總面積已接近15萬平方米。美國的潔凈室建設規(guī)模更大，1998年統(tǒng)計已達188.5萬平方米。

使?jié)崈羰铱傮w表現(xiàn)下降的因素相對濕度在40%至60%的范圍同樣也是人類感覺舒適的適度范圍。濕度過高會使人覺得氣悶，天津潔凈車間施工公司，而濕度低于30%則會讓人感覺干燥，皮膚，天津潔凈車間，呼吸道不適以及情感上的不快。高濕度實際上減小了無塵車間、潔凈室表面的靜電荷積累，較低的濕度比較適合電荷的積累并成為潛在的具有破壞性的靜電釋放源。當相對濕度超過50%時，靜電荷開始迅速消散，但是當相對濕度小于30%時，它們可以在絕緣體或者未接地的表面上持續(xù)存在很長一段時間。相對濕度在35%到40%之間可以作為一個令人滿意的折中，半導體無塵車間、潔凈室一般都使用額外的控制裝置以限制靜電荷的積累。

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