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連續(xù)式磁控濺射鍍膜設(shè)備
該系列生產(chǎn)線(xiàn)主要用于在平板玻璃、壓克力、PET、PC等表面鍍制高質(zhì)量、金屬膜、電磁屏蔽膜、反應(yīng)膜、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜、抗反射(AR)、增反射膜,LOW-E等膜層。至成鍍膜機(jī)廠家可按用戶(hù)要求提供設(shè)計(jì),提供全套設(shè)備,負(fù)責(zé)工藝,按交“鑰匙”工程服務(wù)。
該系列生產(chǎn)線(xiàn)主要用于在平板玻璃、壓克力、PET等表面鍍制高質(zhì)量、金屬膜、電磁屏蔽膜、反應(yīng)膜、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜、抗反射(AR)、增反射膜,LOW-E等膜層。至成鍍膜機(jī)廠家可按用戶(hù)要求提供設(shè)計(jì),提供全套鍍膜設(shè)備,負(fù)責(zé)工藝,按交“鑰匙”工程服務(wù)。
優(yōu)勢(shì):設(shè)備模組化設(shè)計(jì),易拆卸,維修,保養(yǎng);高靶材利用率;高生產(chǎn)力及產(chǎn)品良率;環(huán)保制程無(wú)污染及環(huán)保問(wèn)題;高客制化兼顧產(chǎn)品規(guī)格與低投資成本需求;整廠輸出:?jiǎn)纹讲Aв|控面板整廠輸出;CIGS整廠輸出;整廠輸出;卷對(duì)卷ITO膜整廠輸出;太陽(yáng)能整廠輸出;電致變色整廠輸出;
真空磁控濺射鍍膜機(jī)的電氣控制系統(tǒng)介紹
真空磁控濺射鍍膜機(jī)的電氣控制系統(tǒng)按位置分為控制柜、變壓器組和操作臺(tái)三個(gè)主要部分。設(shè)備所有功能的控制元器件包括可編程PLC、變頻器、調(diào)壓模塊等都裝在控制柜里,控制柜的正面安裝有電阻、電離復(fù)合真空計(jì),安裝有增壓泵、擴(kuò)散泵的加熱電流表以及三相電源的指示燈、報(bào)警指示燈、緊急停止開(kāi)關(guān)。
變壓器組安裝在真空罐的下面,其輸出端正極直接與對(duì)應(yīng)的蒸發(fā)電極棒連接,輸出端負(fù)極并接后再與蒸發(fā)負(fù)極連接。
操作臺(tái)安放在真空罐的前方、觀察窗的下方,觸摸屏、各部件的操作控制按鈕、旋鈕或開(kāi)關(guān)都設(shè)在操作臺(tái)的面板上。
觸摸屏位于操作面板的左上部,卷繞系統(tǒng)參數(shù)包括收放卷的張力、卷徑、機(jī)器的運(yùn)行速度等的設(shè)置和數(shù)據(jù)顯示、真空系統(tǒng)的運(yùn)行指示都在觸摸屏中進(jìn)行。
操作面板的右上部是蒸發(fā)源加熱功率調(diào)節(jié)鈕和電流表,可以調(diào)節(jié)和顯示每組蒸發(fā)源的功率。
操作面板的下部是功能控制按鈕或開(kāi)關(guān),包括控制電源總開(kāi)關(guān)、卷繞車(chē)進(jìn)退、擺臂進(jìn)退、彎輥正反轉(zhuǎn)、送絲開(kāi)關(guān)及速度快慢、蓋板開(kāi)關(guān)、系統(tǒng)運(yùn)行的控制模式選擇等。
pvd鍍膜設(shè)備鍍出的膜層出現(xiàn)異樣,是什么原因
之前有少數(shù)客戶(hù)會(huì)咨詢(xún)我們,為什么PVD鍍膜設(shè)備鍍出來(lái)的膜,偶爾會(huì)出現(xiàn)異樣的情況,問(wèn)具體是什么原因。經(jīng)過(guò)我們技術(shù)人員上門(mén)檢查排查,原因各有不同,下面真空小編為大家講解真空鍍膜不良解析。
隨著消費(fèi)水平的提升,人們對(duì)產(chǎn)品外觀要求也越來(lái)越更高,PVD鍍膜的應(yīng)用也越來(lái)越廣泛。PVD鍍膜設(shè)備也獲得越來(lái)越多的制造業(yè)廠家認(rèn)可和喜愛(ài),它的優(yōu)勢(shì)也是顯而易見(jiàn)的。大家都知道機(jī)器,真空鍍膜是把金屬或者金屬氧化物變成氣態(tài)的分子或原子使其沉積在鍍件表面形成鍍層的一種技術(shù)。和傳統(tǒng)的電鍍技術(shù)相比污染更小、能耗更低,所需的成本較低,裝飾效果和金屬感都比較強(qiáng)。但是大家也都知道它的缺點(diǎn),PVD電鍍工藝不良率高、生產(chǎn)效率低、膜后不穩(wěn)定以使顏色穩(wěn)定性差等,這是整個(gè)行業(yè)的痛點(diǎn)。隨著后期技術(shù)不斷的發(fā)展,環(huán)保要求門(mén)檻不斷提高,傳統(tǒng)電鍍逐漸將被替代及消費(fèi)者對(duì)產(chǎn)品外觀的提高,真空鍍膜技術(shù)在未來(lái)會(huì)有更廣闊的發(fā)展前景。
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