什么是真空鍍膜技術(shù)？

所謂真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

在真空條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn)：可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對(duì)于蒸發(fā)源與基板距離較遠(yuǎn)和薄膜質(zhì)量要求很高的場(chǎng)合，則要求壓力更低。

真空鍍膜機(jī)冷卻系統(tǒng)的原理及監(jiān)控方法

真空鍍膜設(shè)備的金屬罩體通過安裝孔然后以焊接的方式固定在真空鍍膜機(jī)的外壁上，待冷卻的外壁通過加強(qiáng)圓槽形成渠道，這樣確保了冷卻的流通，也避免的死角現(xiàn)象的產(chǎn)生，有效的對(duì)鍍膜機(jī)進(jìn)行了快速的降溫，降低了油泵的溫度，加強(qiáng)了冷卻的強(qiáng)度，結(jié)構(gòu)簡單，等有點(diǎn)，在真空鍍膜機(jī)冷卻外殼上包括金屬罩體的原因是數(shù)個(gè)排列有序，并且內(nèi)凹的加強(qiáng)圓槽，所述加強(qiáng)圓槽呈半球形或圓錐臺(tái)形；在所述加強(qiáng)圓槽底部設(shè)有用連接現(xiàn)有真空鍍膜機(jī)的待冷卻外壁的安裝孔，所述金屬罩體通過安裝孔并以焊接方式固定在現(xiàn)有真空鍍膜機(jī)的待冷卻外壁上，在所述金屬罩體與待冷卻外壁之間通過加強(qiáng)圓槽構(gòu)成循環(huán)通道，根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜機(jī)循環(huán)冷卻系統(tǒng)用冷卻外殼，其特征在于，在所述金屬罩體上相鄰兩所述加強(qiáng)圓槽的縱橫間距為100-300mm,上述加強(qiáng)圓槽槽深為12_15mm,所述金屬罩體的厚度為2-5_，根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜機(jī)循環(huán)冷卻系統(tǒng)用冷卻外殼，其特征在于，所述加強(qiáng)圓槽的大直徑為24-136mm。

真空鍍膜機(jī)中電磁控制的發(fā)展

真空鍍膜機(jī)在現(xiàn)在對(duì)產(chǎn)品的表面處理上具有的優(yōu)勢(shì)還是比較明顯的，這種鍍膜機(jī)械比起其他的表面處理設(shè)備來說，在加工方面，本身是需要在真空的環(huán)境中進(jìn)行的，這樣的鍍膜方式就把外界的一些影響因素給“屏蔽”了，這是這種真空鍍膜機(jī)的一個(gè)優(yōu)勢(shì)之處。

而對(duì)于真空鍍膜機(jī)械來說，目前的電路的發(fā)展也十分迅速，很多電子化的產(chǎn)品也被運(yùn)用到電路當(dāng)中，也使得這些機(jī)械逐漸發(fā)展成為了電動(dòng)化、自動(dòng)化的設(shè)備。

其中濺控濺射鍍膜機(jī)就是比較好的一類代表，作為一種裝置來說，它也是體現(xiàn)出真空鍍膜技術(shù)先進(jìn)手段的代表，利用磁力進(jìn)行控制，通電產(chǎn)生的電磁效用等都對(duì)鍍膜技術(shù)進(jìn)行輔助。

可以說是目前表面處理技術(shù)中值得關(guān)注的一類，而電磁控制的鍍膜機(jī)械的產(chǎn)生對(duì)現(xiàn)在的鍍膜設(shè)備來說，提高了鍍膜時(shí)候膜層的粒子量，這是這種鍍膜機(jī)械的主要運(yùn)用了。