熱成型模真空鍍膜機(jī)有什么優(yōu)勢(shì)：

熱擠壓模：熱擠壓過(guò)程中所使用的鐵合金與非鐵合金工具必須經(jīng)受因腐蝕與超高溫而產(chǎn)生的高成形壓力，嚴(yán)重的磨粒磨損以及粘著磨損。HC物理氣相沉積涂層與HC化學(xué)氣相沉積涂層展現(xiàn)了其高韌性，耐磨性，抗腐蝕性以及熱穩(wěn)定性，而這些性能恰恰能夠明顯地提高工具的使用效率。HC化學(xué)氣相沉積涂層通常適用于擁有復(fù)雜幾何圖形和較大長(zhǎng)寬比的工具。HC08,HC10或HC29涂層適用于公差要求不高的工具，而結(jié)合了滲氮處理的HC35,HC22或HC30涂層適用于公差要求很高的熱擠壓工具。

熱鍛模：熱鍛造過(guò)程中所使用的工具必須經(jīng)受高成形壓力，嚴(yán)重的磨粒磨損以及粘著磨損，并且需要經(jīng)歷要求嚴(yán)苛的熱環(huán)境條件。另外，它們必須經(jīng)受高水平的沖擊，因此地提升工具性能變得更具挑戰(zhàn)性。HC物理氣相沉積涂層具有高韌性，耐磨性，熱穩(wěn)定性以及抗擦傷性，而這些性能恰恰能夠提高工具的使用效率以及鐵合金與非鐵合金產(chǎn)品的質(zhì)量。

結(jié)合了滲氮處理的HC22,HC25與HC30涂層適用于熱鍛造工具。

常用的光學(xué)鍍膜有哪些？

二，光學(xué)薄膜

減反射膜是應(yīng)用廣、產(chǎn)量大的一種光學(xué)薄膜，因此，它至今仍是光學(xué)薄膜技術(shù)中重要的研究課題，研究的重點(diǎn)是尋找新材料，設(shè)計(jì)新膜系,改進(jìn)淀積工藝,使之用少的層數(shù)，簡(jiǎn)單、穩(wěn)定的工藝，獲得盡可能高的成品率，達(dá)到理想的效果。對(duì)激光薄膜來(lái)說(shuō)，減反射膜是激光損傷的薄弱環(huán)節(jié)，如何提高它的破壞強(qiáng)度，也是人們關(guān)心的問(wèn)題之一。

反射膜

它的功能是增加光學(xué)表面的反射率。反射膜一般可分為兩大類，一類是金屬反射膜，一類是全電介質(zhì)反射膜。此外，還有把兩者結(jié)合起來(lái)的金屬電介質(zhì)反射膜。

一般金屬都具有較大的消光系數(shù)，當(dāng)光束由空氣入射到金屬表面時(shí)，進(jìn)入金屬內(nèi)部的光振幅迅速衰減，使得進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能相應(yīng)減少，而反射光能增加。消光系數(shù)越大，光振幅衰減越迅速，進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能越少，反射率越高。人們總是選擇消光系數(shù)較大，光學(xué)性質(zhì)較穩(wěn)定的那些金屬作為金屬膜材料。在紫外區(qū)常用的金屬薄膜材料是鋁，在可見(jiàn)光區(qū)常用鋁和銀，在紅外區(qū)常用金、銀和銅，此外，鉻和鉑也常用作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能，所以必須用電介質(zhì)膜加以保護(hù)。常用的保護(hù)膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。金屬反射膜的優(yōu)點(diǎn)是制備工藝簡(jiǎn)單，工作的波長(zhǎng)范圍寬；缺點(diǎn)是光損耗大，反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進(jìn)一步提高，可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層，組成金屬電介質(zhì)反射膜。需要指出的是，金屬電介質(zhì)反射膜增加了某一波長(zhǎng)（或者某一波區(qū)）的反射率，卻破壞了金屬膜中性反射的特點(diǎn)。

真空電鍍和水電鍍的區(qū)別1、簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，真空電鍍不過(guò)油，其附著力很差，無(wú)法過(guò)百格TEST，而水電鍍的明顯好于真空電鍍！因此，為保證真空電鍍的附著力，均需后續(xù)進(jìn)行特殊的噴涂處理,成本當(dāng)然高些。2、水電鍍顏色較單調(diào)，一般只有亮銀和亞銀等少數(shù)幾種，對(duì)于閃銀、魔幻藍(lán)、裂紋、水滴銀等五花八門的七彩色就無(wú)能為力了。而真空電鍍可以解決七彩色的問(wèn)題。3、水電鍍一般的鍍層材質(zhì)采用“六價(jià)鉻”，這是非環(huán)保材料。對(duì)于“六價(jià)鉻”有如下的要求：歐盟：76/769/EEC：禁止使用；94/62/EC：<100ppm；ROHS：<1000ppm如此嚴(yán)格的要求，國(guó)內(nèi)一些廠家已開始嘗試使用“三價(jià)鉻”來(lái)替代“六價(jià)鉻”；而真空電鍍使用的鍍層材質(zhì)廣泛、容易符合環(huán)保要求。