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磁控濺射鍍膜機(jī)的工作原理是什么?
磁控濺射原理:電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過(guò)程中與原子發(fā)生碰撞,電離出大量的離子和電子,電子飛向基片。離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材,磁控濺射鍍膜設(shè)備哪家好,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過(guò)程中受到磁場(chǎng)洛侖磁力的影響,磁控濺射鍍膜設(shè)備,被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi),該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高,二次電子在磁場(chǎng)的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng),該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長(zhǎng),在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中不斷的與原子發(fā)生碰撞電離出大量的離子轟擊靶材,經(jīng)過(guò)多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,遠(yuǎn)離靶材,沉積在基片上。磁控濺射就是以磁場(chǎng)束縛和延長(zhǎng)電子的運(yùn)動(dòng)路徑,改變電子的運(yùn)動(dòng)方向,提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。電子的歸宿不僅僅是基片,真空室內(nèi)壁及靶源陽(yáng)極也是電子歸宿。但一般基片與真空室及陽(yáng)極在同一電勢(shì)。磁場(chǎng)與電場(chǎng)的交互作用( E X B drift)使單個(gè)電子軌跡呈三維螺旋狀,而不是僅僅在靶面圓周運(yùn)動(dòng)。至于靶面圓周型的濺射輪廓,那是靶源磁場(chǎng)磁力線呈圓周形狀形狀。磁力線分布方向不同會(huì)對(duì)成膜有很大關(guān)系。在E X B shift機(jī)理下工作的不光磁控濺射,多弧鍍靶源,離子源,等離子源等都在次原理下工作。所不同的是電場(chǎng)方向,電壓電流大小而已
沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司本著多年磁控濺射產(chǎn)品行業(yè)經(jīng)驗(yàn),專注磁控濺射產(chǎn)品研發(fā)定制與生產(chǎn),先進(jìn)的磁控濺射產(chǎn)品生產(chǎn)設(shè)備和技術(shù),建立了嚴(yán)格的產(chǎn)品生產(chǎn)體系,想要更多的了解,歡迎咨詢圖片上的熱線電話!??!
小型自動(dòng)磁控濺射儀
沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——磁控濺射產(chǎn)品供應(yīng)商,我們?yōu)槟鷰?lái)以下信息。
1. 濺射室極限真空度:≤6.6×10-6 Pa
2. 系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0×10-7Pa.l/S
3. 系統(tǒng)從大氣開(kāi)始抽氣:濺射室30分鐘可達(dá)到6.6×10-4 Pa;
4. 系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度:≤5Pa
5. 濺射真空室1套,立式上開(kāi)蓋結(jié)構(gòu),尺寸不小于Ф300mm×300mm,全不銹鋼結(jié)構(gòu),弧焊接,表面進(jìn)行電化學(xué)拋光,內(nèi)含防污內(nèi)襯,可內(nèi)烘烤到100~150℃,接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封,腔體內(nèi)有照明系統(tǒng)
6. 磁控濺射系統(tǒng) 3套, 提供3塊測(cè)試靶材。鍍膜不均勻度≤5%
7. 旋轉(zhuǎn)基片臺(tái) 1套,磁控濺射鍍膜設(shè)備多少錢,樣品臺(tái)可放置不小于100mm樣品1片,具有連續(xù)旋轉(zhuǎn)功能,旋轉(zhuǎn)0—30轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào)?;訜釡囟龋菏覝亍?00°C連續(xù)可調(diào),由熱電偶閉環(huán)反饋控制,加熱電源配備控溫表,控溫方式為PID自動(dòng)控溫及數(shù)字顯示
8. 觀察窗口及法蘭接口部件 1套
9. 工作氣路1套,包含:100SCCM、20SCCM質(zhì)量流量控制器、CF16截止閥、管路、接頭等共2路; DN16充氣閥、管路、接頭等2路;
10. 抽氣機(jī)組及閥門、管道 1套,包含1臺(tái)進(jìn)口復(fù)合分子泵及變頻控制電源(680L/s ,德國(guó)普發(fā)Hipace700分子泵);1臺(tái)機(jī)械泵(4L/S) ,1臺(tái)DN40氣動(dòng)截止閥,機(jī)械泵與真空室之間的旁抽管路1套,CC150氣動(dòng)閘板閥1臺(tái)(用于復(fù)合分子泵與真空室隔離),節(jié)流閥1臺(tái),DN40旁抽氣閥1臺(tái),壓差式充氣閥1臺(tái);管道采用不銹鋼三通及波紋管,
11. 安裝機(jī)臺(tái)架組件 1套,由方鋼型材焊接成,快卸圍板表面噴塑處理,機(jī)臺(tái)表面用不銹鋼蒙皮裝飾,四只腳輪,可固定,可移動(dòng)。
臥式磁控濺射鍍膜機(jī)
以下是沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您一起分享的內(nèi)容,沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司生產(chǎn)磁控濺射產(chǎn)品,歡迎新老客戶蒞臨。
主要用途:
用于納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備?! ?/p>
系統(tǒng)組成:
主要由真空室系統(tǒng)濺射室、靶及電源系統(tǒng)、樣品臺(tái)系統(tǒng)、真空抽氣及測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)及輔助系統(tǒng)等組成。
企業(yè): 沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司
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