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重慶中迪反滲透阻垢劑如何計(jì)算
反滲透阻垢劑能有效的控制無機(jī)物結(jié)垢,特別適用于給水中鋇、鍶含量高,清洗除垢劑廠家,硫酸鋇、硫酸鍶結(jié)垢傾向嚴(yán)重的反滲透系統(tǒng)。它可以在很寬的濃度范圍內(nèi)有效地阻止結(jié)垢的發(fā)生。那么,應(yīng)該怎樣計(jì)算反滲透阻垢劑的加藥量?
反滲透阻垢劑的推薦濃度一般為3-6ppm,即反滲透設(shè)備每進(jìn)水1噸需要添加3-6g的阻垢劑。
月用量的計(jì)算公式:W=Q×S×H×30/1000,式中W為月用量(Kg);Q為反滲透設(shè)備的進(jìn)水流量(m3/h);S為投加濃度(3-6ppm,即g/噸),反滲透阻垢劑批發(fā),H為反滲透設(shè)備的工作時(shí)間(小時(shí));1000為g與Kg的換算量。若一臺反滲透設(shè)備的產(chǎn)水量為75噸/小時(shí),則進(jìn)水需要至少100噸/小時(shí),月用量為:100×3.5×24×30/1000=252KG2.
反滲透阻垢劑一般添加在反滲透系統(tǒng)的保安過濾器,即精密過濾器之前。添加于加藥裝置中通過計(jì)量泵投加在反滲透設(shè)備的管道之中。反滲透阻垢劑可以直接使用原液也可稀釋后再使用,稀釋倍數(shù)不得超過10倍,即濃度不得低于10%.
以上內(nèi)容是由重慶中迪水處理技術(shù)有限公司提供,是一家從事水處理藥劑開發(fā)研究及水處理設(shè)備生產(chǎn)銷售的一體化公司,公司所有服務(wù)的行業(yè)包括所有需要使用除鹽水、純凈水、軟水、循環(huán)冷卻水、自來水的各類企業(yè)和需要處理工業(yè)污水及工業(yè)設(shè)備清洗的各類企業(yè),歡迎大家誠來咨詢!
重慶中迪凝汽器結(jié)垢和腐蝕清洗劑
因循環(huán)水零排污要求,鍋爐補(bǔ)充水取水量變化、弱酸床出水水質(zhì)變化、中水不定期補(bǔ)充等因素,導(dǎo)致循環(huán)水質(zhì)波動較大。凝汽器腐蝕泄漏的原因是:
(1)凝汽器換熱管結(jié)垢后,表面垢層與金屬表面間有一種很難與外界介質(zhì)進(jìn)行接觸和擴(kuò)散,而形成閉塞區(qū);
(2)在閉塞區(qū)內(nèi)金屬腐蝕存在自催化作用,金屬離子濃度增加,為保持電荷平衡,穿透力較強(qiáng)的氯離子不斷遷移進(jìn)入蝕孔,引起閉塞區(qū)氯離子富集而誘發(fā)點(diǎn)腐蝕。
(3)同時(shí),腐蝕孔中的金屬氯化物發(fā)生水解,生產(chǎn)H ,使閉塞區(qū)介質(zhì)PH值降低,從而形成一種酸性環(huán)境,進(jìn)一步加速金屬溶解和氯離子濃縮,并形成不好循環(huán)的作用。
(4)凝汽器換熱管結(jié)垢后,換熱管溫度升高,垢下濕熱環(huán)境中厭氧型細(xì)菌滋生,緩蝕性離子SO42-缺失,加劇凝汽器換熱管的點(diǎn)腐蝕發(fā)展,造成腐蝕穿孔泄漏。中浩遠(yuǎn)達(dá)采用配制清洗劑溶液,分別將已有腐蝕小孔的電極和表面有人工缺陷的電極浸泡在清洗劑溶液中,溫度為室溫,保山阻垢劑,浸泡10d后,未發(fā)現(xiàn)這試樣腐蝕坑點(diǎn)有明顯的發(fā)展跡象,這表明,用中浩遠(yuǎn)達(dá)清洗劑溶液進(jìn)行酸洗不會造成鋼管發(fā)生快速點(diǎn)蝕穿孔。
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反滲透設(shè)備為什么要加阻垢劑?
1.反滲透阻垢劑的基本功能:
①絡(luò)和增溶作用:反滲透阻垢劑溶于水后電離,產(chǎn)生負(fù)電分子鏈,與Ca2 形成可溶于水的絡(luò)合物或螯合物,增加無機(jī)鹽的溶解度,太陽能清洗阻垢劑,起到阻垢作用。
②晶格畸變:反滲透阻垢劑分子中的一些官能團(tuán)在無機(jī)鹽晶核或微晶上占據(jù)一定位置,阻礙和破壞無機(jī)鹽晶體的正常生長,降低晶體的生長率,從而減少鹽垢的形成。
③靜電斥力:反滲透阻垢劑溶于水,吸附在無機(jī)鹽微晶上,增加顆粒間排斥,阻礙其聚集,使其處于良好的分散狀態(tài),防止或減少污垢的形成。
④反滲透阻垢劑用于改善反滲透和納濾系統(tǒng)的性能。
⑤阻垢劑和分散劑是防止結(jié)晶礦物鹽沉淀和結(jié)垢形成的一系列化學(xué)物質(zhì)。
2.阻垢劑功能:
①抑制沉淀功能:陰陽離子和陰離子在阻垢劑系統(tǒng)中開始沉淀時(shí)的離子積值遠(yuǎn)大于沒有阻垢劑時(shí)的臨界沉淀離子積值。
②分散功能:當(dāng)有阻垢劑時(shí),由于沉淀顆粒較小,很難比沒有阻垢劑時(shí)沉淀顆粒沉淀。
③晶格變形效應(yīng):有阻垢劑的系統(tǒng)中沉淀的晶體呈球形、多面體、雪花狀等不定形狀態(tài)。一般認(rèn)為,在晶體生長過程中,阻垢劑吸附在晶體生長點(diǎn)上,使其表面的生長速度急劇下降,晶體的生長速度與原始形狀不同。
④低限效應(yīng):阻垢劑的添加量遠(yuǎn)低于水中的結(jié)垢成分,單一也能顯示阻垢效果。
企業(yè): 重慶中迪水處理技術(shù)有限公司
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