脈沖激光沉積系統的配置介紹

沈陽鵬程真空技術有限責任公司生產、銷售脈沖激光沉積，我們?yōu)槟治鲈摦a品的以下信息。

1.靶: 數量6個，脈沖激光沉積設備哪家好，大小1-2英寸，被激光照射時可自動旋轉，靶的選擇可通過步進電機控制;

2.基板:采用適合于氧氣環(huán)境鉑金加熱片，大小2英寸，加熱溫度可達1200攝氏度，溫度差<3%，加熱時基板可旋轉，工作環(huán)境的壓力可達300mtorr;

3.基板加熱電源，高到1200度;

4.超高真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質，內表面電解拋光，本底真空度<5e-8 pa;

5.樣品搬運室:不銹鋼sus304材質，脈沖激光沉積設備，內表面電解拋光，本底真空度<5e-5 pa;

6.排氣系統:分子泵和干式機械泵;

7.閥門: 采用超高真空擋板閥;

8.真空檢測:真空計;

9.氣路兩套: 采用氣體流量計控制;

10.薄膜生長監(jiān)控系統: 采用掃描型差分RHEED;

11.監(jiān)控系統:基板溫度的監(jiān)控和設定，基板和靶的旋轉，脈沖激光沉積設備多少錢，靶的更換等;

12.各種電流導入及測溫端子;

13.其它各種構造:各種超高真空位移臺，脈沖激光沉積設備廠家，磁力傳輸桿，超高真空法蘭，超高真空密封墊圈，超高真空用波紋管等;

脈沖激光沉積系統特點及優(yōu)勢

可根據客戶需求定制產品，靈活性高，并提供的技術支持；靶臺可以安裝6個靶位，靶材更換靈活；樣品臺樣品尺寸從10x10mm樣品到2英寸樣品均適用；進樣室可以存儲多個靶和樣品；交易過程無需繁瑣的進、出關手續(xù)， 交貨期短，高；

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PLD 主要選件

離子輔助沉積 (IBAD)系統介紹

離子輔助沉積已經成為在無規(guī)取向的基片或無定形基片上沉積雙軸結構薄膜的一種重要技術。Neocera 開發(fā)了離子輔助的PLD 系統，該系統將PLD 在沉積復雜材料方面的優(yōu)勢與IBAD 能力結合在一起。

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脈沖激光沉積設備-沈陽鵬程公司-脈沖激光沉積設備哪家好由沈陽鵬程真空技術有限責任公司提供。沈陽鵬程真空技術有限責任公司在成型設備這一領域傾注了諸多的熱忱和熱情，沈陽鵬程一直以客戶為中心、為客戶創(chuàng)造價值的理念、以品質、服務來贏得市場，衷心希望能與社會各界合作，共創(chuàng)成功，共創(chuàng)輝煌。相關業(yè)務歡迎垂詢，聯系人：董順。