人工清洗反應(yīng)釜需要消耗多長時(shí)間

反應(yīng)釜反應(yīng)后，油冷器清洗，將始終對(duì)其進(jìn)行清潔，但清潔始終是一件麻煩的事情。 反應(yīng)釜不僅必須清除材料，還必須清除粘在墻上的反應(yīng)物。手動(dòng)清潔需要多長時(shí)間？什么？

通過手動(dòng)進(jìn)入水壺進(jìn)行手動(dòng)清潔：低成本是其優(yōu)勢(shì)，但進(jìn)入水壺之前需要通風(fēng)幾個(gè)小時(shí)。在去除過程中，必須隨時(shí)監(jiān)測(cè)釜中的氧氣濃度，這可能會(huì)導(dǎo)致缺氧的風(fēng)險(xiǎn)；同時(shí)，手動(dòng)刮除可以消除，除了進(jìn)行清潔外，還會(huì)在

反應(yīng)釜的內(nèi)壁上打滑，并且這些打滑客觀上會(huì)導(dǎo)致殘留物進(jìn)一步粘附。進(jìn)入水壺進(jìn)行清潔的人員也會(huì)引起產(chǎn)品衛(wèi)生問題。一般來說，清理反應(yīng)堆大約需要半天到一天的時(shí)間。

反應(yīng)釜清洗也是人類體力的消耗，并且由于隨時(shí)都會(huì)發(fā)生缺氧，因此在清潔時(shí)需要多名工人進(jìn)行更換。這不僅可以提高清潔效率，而且可以很好地節(jié)省資源。

水沖刷酸洗完畢后，應(yīng)將酸洗液以快速度排放

并以盡可能短的時(shí)間和盡可能高的流速?zèng)_刷清洗系統(tǒng)，當(dāng)系統(tǒng)出口水的pH值大于5時(shí)，即可完畢水沖刷。

2.6 漂洗

漂洗是一個(gè)低濃度酸洗的進(jìn)程，其操作進(jìn)程和酸洗進(jìn)程相同，只是酸洗劑的濃度較低。漂洗完畢的判別也和酸洗終判別相同。

2.1 鈍化 將系統(tǒng)內(nèi)水的溫度控制在預(yù)定規(guī)劃，必要時(shí)可用向系統(tǒng)中參與自來水的辦法降溫。向漂洗液中參與NaOH或NH3， H，O，調(diào)度pH值所需規(guī)劃，參與鈍化劑，循環(huán)或浸泡清洗。在鈍化進(jìn)程中，每1h取樣剖析鈍化液中堿的濃度和鈍化液的pH值。在鈍化完畢后，把鈍化液排出，并用鍋爐給水沖刷至pH≈8～9，清洗進(jìn)程完畢。

3 煮爐  

50年代中期以前消費(fèi)的鍋爐曾選用過鉚接與脹接工藝，這種鍋爐有制造縫隙，不可能選用酸洗的辦法鏟除氧化皮、焊渣、塵土等污垢，所以選用煮爐的辦法除銹除垢。結(jié)了垢的鍋爐也常選用煮爐的辦法除垢。直到鍋爐選用全焊接制造工藝后，酸洗除垢才得以普遍應(yīng)用。但低壓鍋爐仍把煮爐去油污作為投產(chǎn)前的清洗和防腐蝕辦法；當(dāng)垢中有硅酸鹽和硫酸鹽時(shí)，選用煮爐轉(zhuǎn)化，管道清洗，能夠除垢或有助于垢的鏟除。煮爐首要分堿煮爐和橡膠煮爐兩種。

化學(xué)清洗和安全知識(shí)

1 化學(xué)清洗

在半導(dǎo)體器件工藝實(shí)驗(yàn)中?；瘜W(xué)清洗是指去除吸附在半導(dǎo)體、金屬材料和器具表面的各種有害雜質(zhì)或油漬。清洗方法是利用各種化學(xué)試劑和有機(jī)助熔劑，使吸附在被清洗物體表面的雜質(zhì)和油類發(fā)生化學(xué)反應(yīng)溶解，或輔以超聲波、加熱、真空等物理措施，將雜質(zhì)除去。從要清潔的物體。表面解吸（或解吸），然后用大量高純冷熱去離子水沖洗，窯頭清洗，得到干凈的表面。

1.1 化學(xué)清洗的重要性

工藝實(shí)驗(yàn)中的每個(gè)實(shí)驗(yàn)都有化學(xué)清洗的問題?；瘜W(xué)清洗的質(zhì)量對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果有嚴(yán)重影響。如果過程處理不當(dāng)，將得不到實(shí)驗(yàn)結(jié)果或?qū)嶒?yàn)結(jié)果很差。因此，了解化學(xué)清洗的作用和原理對(duì)工藝實(shí)驗(yàn)具有重要意義。眾所周知，半導(dǎo)體的重要特性之一是對(duì)雜質(zhì)非常敏感。只要有百萬分之一甚至少量的雜質(zhì)，新余清洗，就會(huì)對(duì)半導(dǎo)體的物理性能產(chǎn)生影響。方法。各種功能半導(dǎo)體器件的制造。但也正是因?yàn)檫@個(gè)特點(diǎn)，給半導(dǎo)體器件的工藝實(shí)驗(yàn)帶來了麻煩和困難。用于清潔的化學(xué)試劑、生產(chǎn)工具和水可能成為有害雜質(zhì)的來源。即使是干凈的半導(dǎo)體晶圓更長時(shí)間暴露在空氣中也會(huì)引入明顯的污染物。化學(xué)清洗是去除有害雜質(zhì)，保持硅片表面清潔。

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