鍋爐本體的改造

鍋爐本體改造的企圖首先是把鍋爐需清洗的部位從整個(gè)鍋爐系統(tǒng)中“孤立”出來(包含吊銷不宜清洗的計(jì)量儀表、閥門等)，使被清洗的部位經(jīng)過暫時(shí)管線構(gòu)成回路。清洗液進(jìn)入被清洗系統(tǒng)時(shí)，不會進(jìn)入其他不參與清洗的部位。二是依據(jù)化學(xué)清洗的請求，把參與清洗的各部位調(diào)整成對化學(xué)清洗來講都具有契合請求的工藝參數(shù)(首要指流速)，成為無死角、無偏流、無短路的清洗系統(tǒng)。 關(guān)于普通的小型鍋爐，把給水系統(tǒng)與蒸汽(或熱水)的

出口斷開，即可把清洗部位“孤立”出來，鍋爐本體不需求作其他變化。清洗液的出口應(yīng)在鍋爐的方位，出口應(yīng)在鍋爐的方位。進(jìn)口和出口不應(yīng)在鍋爐的同

一側(cè)，而應(yīng)處于對角線的方位。這樣使鍋爐在清洗時(shí)清洗液能充溢鍋爐，排放時(shí)干凈不留殘液。關(guān)于小型鍋爐，準(zhǔn)繩上不要重新裝置進(jìn)出口，而盡量運(yùn)用鍋爐原

有的通道。普通運(yùn)用鍋爐的排污口和冷水口作清洗液的進(jìn)液口和排污口，剎用平安閥蒸汽出口方位作清洗液出口。關(guān)于構(gòu)造比擬復(fù)雜的鍋爐，改造任務(wù)比擬深重。首

先要把汽包內(nèi)的分別設(shè)備吊銷，將上下聯(lián)箱的手孔割開作為清洗液的進(jìn)出口。降落管加裝節(jié)約孔板，然后運(yùn)用暫時(shí)管線將割開的聯(lián)箱手孔和鍋爐給水口等和清洗設(shè)備

結(jié)合起來，構(gòu)成若干個(gè)清洗回路。關(guān)于不清洗r過熱器的鍋爐，過熱器內(nèi)還應(yīng)充溢水或聯(lián)氨等作維護(hù)，然后用木塞將一切能進(jìn)入過熱器的通道堵死，使清洗液不能進(jìn)入過熱器部位。．_清洗回路的分組應(yīng)使每一個(gè)回路內(nèi)具有左近的流通截面及水力特性，以確?；芈妨魉傧嗤ｅ仩t的清洗回路不宜過多，避免操作不便當(dāng)，普通為2～4個(gè)回路，經(jīng)過閥門能夠使每個(gè)回路的正、逆向循環(huán)。當(dāng)某一回路中的清洗液循環(huán)時(shí)，其他回路處于中止浸泡清洗狀況，也能夠調(diào)整閥門停止一切回路的大循環(huán)。工業(yè)鍋爐的清洗

工業(yè)設(shè)備如何清洗?工業(yè)設(shè)備清洗方法

工業(yè)清洗是物體表面受到物理、化學(xué)或生物的作用而形成的污染層或覆蓋層稱作污垢，去除這些污染物或覆蓋層而使其恢復(fù)原表面狀況的過程稱為清洗。

工業(yè)設(shè)備清洗方法

物理清洗和化學(xué)清洗

1.物理清洗是利用力學(xué)、聲學(xué)、光學(xué)、電學(xué)、熱學(xué)的原理，依靠外來能的作用，多晶硅設(shè)備清洗，如機(jī)械摩擦、超聲波、負(fù)壓、高壓、沖擊、紫外線、蒸汽等去除物體表面污垢而不改變污類組分的清洗方法。即不改變原來的化學(xué)分子組分的方法。

①機(jī)械清洗法：清掃器和清理法、鉆管清洗法、噴丸清洗法。

②水力清洗法：低壓水力清洗(低壓清洗的壓力為196-686千帕，大約2-7公斤力/平方厘米，翅片清洗，等于0.2-0.7Mpa)。

③高壓水力清洗：高壓清洗的壓力為4900千帕，新余清洗，大約50公斤力/平方厘米，等于5Mpa。這種情況方法也叫高壓水射流法、高壓清洗機(jī)。

化學(xué)清洗和安全知識

1 化學(xué)清洗

在半導(dǎo)體器件工藝實(shí)驗(yàn)中?；瘜W(xué)清洗是指去除吸附在半導(dǎo)體、金屬材料和器具表面的各種有害雜質(zhì)或油漬。清洗方法是利用各種化學(xué)試劑和有機(jī)助熔劑，使吸附在被清洗物體表面的雜質(zhì)和油類發(fā)生化學(xué)反應(yīng)溶解，或輔以超聲波、加熱、真空等物理措施，將雜質(zhì)除去。從要清潔的物體。表面解吸（或解吸），然后用大量高純冷熱去離子水沖洗，得到干凈的表面。

1.1 化學(xué)清洗的重要性

工藝實(shí)驗(yàn)中的每個(gè)實(shí)驗(yàn)都有化學(xué)清洗的問題?；瘜W(xué)清洗的質(zhì)量對實(shí)驗(yàn)結(jié)果有嚴(yán)重影響。如果過程處理不當(dāng)，高壓清洗，將得不到實(shí)驗(yàn)結(jié)果或?qū)嶒?yàn)結(jié)果很差。因此，了解化學(xué)清洗的作用和原理對工藝實(shí)驗(yàn)具有重要意義。眾所周知，半導(dǎo)體的重要特性之一是對雜質(zhì)非常敏感。只要有百萬分之一甚至少量的雜質(zhì)，就會對半導(dǎo)體的物理性能產(chǎn)生影響。方法。各種功能半導(dǎo)體器件的制造。但也正是因?yàn)檫@個(gè)特點(diǎn)，給半導(dǎo)體器件的工藝實(shí)驗(yàn)帶來了麻煩和困難。用于清潔的化學(xué)試劑、生產(chǎn)工具和水可能成為有害雜質(zhì)的來源。即使是干凈的半導(dǎo)體晶圓更長時(shí)間暴露在空氣中也會引入明顯的污染物?；瘜W(xué)清洗是去除有害雜質(zhì)，保持硅片表面清潔。

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