雙室磁控濺射系統(tǒng)

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設備簡介

主要特點是設備體積小，結構簡單緊湊易于操作，對實驗室供電要求低；該系列設備主要部件采用進口或者國內優(yōu)的配置，從而提高設備的穩(wěn)定性；另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設備的運行重復性及安全性方面得到更好地保障。 目前該系列有基本型、旗艦型、豪華型、尊享型4種不同配置可供選擇，可以根據客戶的不同需求進行配置，磁控濺射鍍膜設備報價，比較靈活；標配4只Φ2英寸永磁靶，磁控濺射鍍膜設備公司，4臺500W直流濺射電源，主要用來開發(fā)納米級單層及多層的金屬導電膜、半導體膜以及絕緣膜等。

濺射鍍膜

濺射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子沉積在基片上的技術。通常，利用低壓惰性氣體輝光放電來產生入射離子。陰極靶由鍍膜材料制成，基片作為陽極，真空室中通入0.1-10Pa的氣或其它惰性氣體，在陰極（靶）1-3KV直流負高壓或13.56MHz的射頻電壓作用下產生輝光放電。電離出的離子轟擊靶表面，使得靶原子濺出并沉積在基片上，形成薄膜。濺射方法很多，主要有二級濺射、三級或四級濺射、磁控濺射、對靶濺射、射頻濺射、偏壓濺射、非對稱交流射頻濺射、離子束濺射以及反應濺射等。

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小型磁控濺射儀的優(yōu)勢

設備主要優(yōu)勢    

實用性：設備集成度高，結構緊湊，占地面積小，可以滿足客戶實驗室空間不足的苛刻條件；通過更換設備上下法蘭可以實現(xiàn)磁控與蒸發(fā)功能的轉換，實現(xiàn)一機多用；

方便性：設備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接線及安裝調試簡單，既保證了設備使用方便又保證了設備的整潔；

高：設備主要零部件采用進口或國內品牌，以國產設備的價格擁有進口設備的配置，磁控濺射鍍膜設備，從而保證了設備的質量及性能；

安全性：獨立開發(fā)的PLC 觸摸屏智能操作系統(tǒng)在傳統(tǒng)操作系統(tǒng)的基礎上新具備了漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護提示等功能，磁控濺射鍍膜設備價格，保證了設備的使用安全性能；

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沈陽鵬程真空技術-磁控濺射鍍膜設備價格-磁控濺射鍍膜設備由沈陽鵬程真空技術有限責任公司提供。沈陽鵬程真空技術有限責任公司是一家從事“電阻熱蒸發(fā)鍍膜，磁控濺射，激光脈沖沉積，電子束”的公司。自成立以來，我們堅持以“誠信為本，穩(wěn)健經營”的方針，勇于參與市場的良性競爭，使“鵬程真空”品牌擁有良好口碑。我們堅持“服務至上，用戶至上”的原則，使沈陽鵬程在成型設備中贏得了客戶的信任，樹立了良好的企業(yè)形象。 特別說明：本信息的圖片和資料僅供參考，歡迎聯(lián)系我們索取準確的資料，謝謝！