機(jī)械/涂層鍍膜設(shè)備

將性能發(fā)揮限：F1、Nascar、MotoGP、WRC、OSS賽艇等，在這些運(yùn)動(dòng)中，每一盎司的重量都經(jīng)過(guò)精打細(xì)算。輕型現(xiàn)代材料的利用具有限制性，同時(shí)還減少摩擦損失。機(jī)械/涂層真空鍍膜機(jī)滿足上述要求。

摩擦和磨損：內(nèi)燃機(jī)內(nèi)部的摩擦造成大約百分之十的能效損失。主要的摩擦點(diǎn)來(lái)自活塞總成、氣門(mén)結(jié)構(gòu)和曲軸。由于齒輪需要大量的潤(rùn)滑油以備潤(rùn)滑，也會(huì)造成效率損失。

在零件表面使用HC涂層，從而增加負(fù)荷密度，降低潤(rùn)滑需求。鈦等容易磨振和磨損的材料能夠應(yīng)用在上還是歸功于涂層和表面處理，涂層和表面處理能夠降低摩擦系數(shù)，提高硬度，同時(shí)還能保持基體材料本身的性能。

工程：至成鍍膜機(jī)廠家真空工程師從零件設(shè)計(jì)開(kāi)始就與客戶合作，以滿足每一客戶的特定需求。

不僅僅只是涂層：為達(dá)到良好性能，愛(ài)恩邦德采用了大量專(zhuān)門(mén)研發(fā)的涂層表面預(yù)/后處理技術(shù)，與涂層相結(jié)合，能夠發(fā)揮涂層的優(yōu)勢(shì)性能。

鍍膜機(jī)真空機(jī)械選擇鍍膜機(jī)真空機(jī)械選擇，真空泵在其工作壓強(qiáng)下，應(yīng)能排走真空設(shè)備工藝過(guò)程中產(chǎn)生的全部氣體量。⑴真空泵工作時(shí)產(chǎn)生的振動(dòng)對(duì)工藝過(guò)程及環(huán)境有無(wú)影響。若工藝過(guò)程不允許，應(yīng)選擇無(wú)振動(dòng)的泵或者采取防振動(dòng)措施?！、屏私獗怀闅怏w成分，氣體中含不含可凝蒸氣，有無(wú)顆粒灰塵，有無(wú)腐蝕性等。選擇真空泵時(shí)，需要知道氣體成分，針對(duì)被抽氣體選擇相應(yīng)的泵。如果氣體中含有蒸氣、顆粒、及腐蝕性氣體，應(yīng)該考慮在泵的進(jìn)氣口管路上安裝輔助設(shè)備，如冷凝器、除塵器等。

影響鍍膜機(jī)磁控靶點(diǎn)火電壓的幾個(gè)因素

氣體壓力對(duì)點(diǎn)火電壓的影響：在磁控靶濺射鍍膜工藝過(guò)程中，由于磁控靶的陰-陽(yáng)極間距一經(jīng)確定就是一個(gè)大體不變的值，工作氣體的壓力在一定的(例如0.1Pa~10Pa)范圍內(nèi)變化可能會(huì)對(duì)點(diǎn)火電壓產(chǎn)生較大的影響，總的變化趨勢(shì)為：隨著工作氣體的壓力的逐步增大，磁控靶點(diǎn)火電壓相應(yīng)降低。不同的磁控靶、不同材質(zhì)的靶材，靶啟輝點(diǎn)火的工作氣體壓強(qiáng)不盡相同。

電源對(duì)點(diǎn)火電壓的影響：在同等條件下，選用射頻靶電源比選中頻或直流靶電源，磁控靶陰極點(diǎn)火電壓和工作(濺射)電壓都會(huì)要降低;選用射頻、中頻正弦半波或脈沖靶電源，比選低頻率同類(lèi)波形靶電源，陰極點(diǎn)火電壓和工作(濺射)電壓均會(huì)要降低;