小型磁控濺射鍍膜系統(tǒng)簡(jiǎn)介

小型磁控濺射鍍膜系統(tǒng)適合于快速濺射鍍膜科研、教學(xué)與小批量打樣，可快速、低成本的制備多種微納米厚度的膜層。

具有一體化、占用空間小、靈活的特點(diǎn)，無(wú)需380V工業(yè)電，無(wú)需額外冷水機(jī)，采用無(wú)油干泵分子泵組，無(wú)需操心真空系統(tǒng)和操作間環(huán)境泵油污染。

保證設(shè)備具有優(yōu)異的質(zhì)量與性。觸摸屏控制界面，帶來(lái)簡(jiǎn)單、操作方便的體驗(yàn)。

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磁控濺射鍍膜機(jī)導(dǎo)致不均勻因素哪些？

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原理上講，兩點(diǎn)：氣場(chǎng)和磁場(chǎng)

磁控濺射在0.4Pa的氣壓情況下離子撞擊靶材，濺射出粒子沉積到基材上，整體靶材的電壓幾乎一致，不影響濺射速率。

0.4Pa的氣場(chǎng)情況是濺射速率較高的情況，氣場(chǎng)變化，壓強(qiáng)變大和變小都會(huì)影響濺射速率。

磁場(chǎng)大，束縛的自由電子增多，濺射速率增大，磁場(chǎng)小，束縛的自由電子就少，濺射速率降低。

穩(wěn)定住氣場(chǎng)和磁場(chǎng)，濺射速率也將隨之穩(wěn)定。

在實(shí)際情況下，氣場(chǎng)穩(wěn)定，磁控濺射設(shè)備報(bào)價(jià)，需要設(shè)計(jì)布?xì)庀到y(tǒng)，將布?xì)庀到y(tǒng)分級(jí)布置，保障鍍膜機(jī)腔體內(nèi)不同位置的進(jìn)氣量相同，同時(shí)，布?xì)庀到y(tǒng)、靶材、基材等要遠(yuǎn)離鍍膜機(jī)的抽氣口。需要穩(wěn)定磁場(chǎng)，用高斯計(jì)測(cè)量靶材表面磁場(chǎng)強(qiáng)度，由于磁場(chǎng)線(xiàn)本身是閉合曲線(xiàn)，靶材磁場(chǎng)回路兩端磁場(chǎng)強(qiáng)度自然比中間位置強(qiáng)，可以選擇用弱磁鐵，磁控濺射設(shè)備多少錢(qián)，同時(shí)，磁控濺射設(shè)備，基材要避開(kāi)無(wú)法調(diào)整的磁場(chǎng)變化較大的部分。

另外，在設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)方面，磁控濺射過(guò)程中，需要基材與靶材保持同軸，磁控濺射設(shè)備哪家好，如果旋轉(zhuǎn)、直線(xiàn)運(yùn)行的話(huà)，也要同軸旋轉(zhuǎn)、直線(xiàn)運(yùn)行。

自動(dòng)磁控濺射系鍍膜機(jī)介紹

以下內(nèi)容由沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供，希望對(duì)同行業(yè)的朋友有所幫助。

自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)選配項(xiàng)：

RF、DC濺射

熱蒸鍍能力

RF或DC偏壓（1000V）

樣品臺(tái)可加熱到700°C

膜厚監(jiān)測(cè)儀

基片的RF射頻等離子清洗

應(yīng)用：

晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質(zhì)涂覆

光學(xué)以及ITO涂覆

帶高溫樣品臺(tái)和脈沖DC電源的硬涂覆

帶RF射頻等離子放電的反應(yīng)濺射

磁控濺射設(shè)備-沈陽(yáng)鵬程公司-磁控濺射設(shè)備哪家好由沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司提供。沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司堅(jiān)持“以人為本”的企業(yè)理念，擁有一支高素質(zhì)的員工隊(duì)伍，力求提供更好的產(chǎn)品和服務(wù)回饋社會(huì)，并歡迎廣大新老客戶(hù)光臨惠顧，真誠(chéng)合作、共創(chuàng)美好未來(lái)。沈陽(yáng)鵬程——您可信賴(lài)的朋友，公司地址：沈陽(yáng)市沈河區(qū)凌云街35號(hào)，聯(lián)系人：董順。