磁控濺射設(shè)備的主要用途

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司擁有先進(jìn)的技術(shù)，我們都以質(zhì)量為本，信譽(yù)高，我們竭誠歡迎廣大的顧客來公司洽談業(yè)務(wù)。如果您對磁控濺射產(chǎn)品感興趣，歡迎點(diǎn)擊左右兩側(cè)的在線客服，單靶磁控濺射儀公司，或撥打咨詢電話。

（1）各種功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低溫沉積氮化硅減反射膜，以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。

（2）裝飾領(lǐng)域的應(yīng)用，如各種全反射膜及半透明膜等，如手機(jī)外殼，鼠標(biāo)等。

（3） 在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù)，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積（CVD）或金屬有機(jī)

（4）化學(xué)氣相沉積（CVD）生長困難及不適用的材料薄膜沉積，單靶磁控濺射儀價格，而且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。

（5） 在光學(xué)領(lǐng)域：中頻閉合場非平衡磁控濺射技術(shù)也已在光學(xué)薄膜（如增透膜）、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃等方面得到應(yīng)用。特別是透明導(dǎo)電玻璃廣泛應(yīng)用于平板顯示器件、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置與器件、傳感器等。

（6）在機(jī)械加工行業(yè)中，表面功能膜、超硬膜，自潤滑薄膜的表面沉積技術(shù)自問世以來得到長足發(fā)展，能有效的提高表面硬度、復(fù)合韌性、耐磨損性和抗高溫化學(xué)穩(wěn)定性能，從而大幅度地提高涂層產(chǎn)品的使用壽命。

磁控濺射除上述已被大量應(yīng)用的領(lǐng)域，還在高溫超導(dǎo)薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發(fā)光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面發(fā)揮重要作用。

直流磁控濺射技術(shù)的原理

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——生產(chǎn)、銷售磁控濺射產(chǎn)品，我們公司堅(jiān)持用戶為上帝，想用戶之所想，急用戶之所急，以誠為本，講求信譽(yù)，以產(chǎn)品求發(fā)展，單靶磁控濺射儀，以質(zhì)量求生存，我們熱誠地歡迎各位同仁合作共創(chuàng)輝煌。

直流磁控濺射技術(shù)其原理是：在磁控濺射中，由于運(yùn)動電子在磁場中受到洛侖茲力，它們的運(yùn)動軌跡會發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運(yùn)動，其運(yùn)動路徑變長，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù)，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作，單靶磁控濺射儀廠家，降低薄膜污染的傾向；另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量，因而可以在很大程度上改善薄膜的質(zhì)量。同時，經(jīng)過多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽極時，已變成低能電子，從而不會使基片過熱。因此磁控濺射法具有“高速”、“低溫”的優(yōu)點(diǎn)。

磁控濺射系統(tǒng)介紹

想了解更多關(guān)于磁控濺射產(chǎn)品的相關(guān)資訊，請持續(xù)關(guān)注本公司。

真空泵和測量裝置：

低真空：干泵和convectron真空規(guī)

高真空：渦輪分子泵，低溫泵和離子規(guī)

5.控制系統(tǒng)：

硬件：PLC和計(jì)算機(jī)觸摸屏控制

自動和手動沉積控制

主要特點(diǎn)：

射頻電源：基底預(yù)先清洗和等離子體輔助沉積

溫度控制器：基底加熱

大面積基底傳送裝置

冷卻系統(tǒng)

單靶磁控濺射儀-沈陽鵬程真空技術(shù)公司-單靶磁控濺射儀廠家由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司提供。沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司位于沈陽市沈河區(qū)凌云街35號。在市場經(jīng)濟(jì)的浪潮中拼博和發(fā)展，目前沈陽鵬程在成型設(shè)備中享有良好的聲譽(yù)。沈陽鵬程取得全網(wǎng)商盟認(rèn)證，標(biāo)志著我們的服務(wù)和管理水平達(dá)到了一個新的高度。沈陽鵬程全體員工愿與各界有識之士共同發(fā)展，共創(chuàng)美好未來。