真空卷繞鍍膜設(shè)備的結(jié)構(gòu)特征

其一,被鍍基材為柔性基材,即具有可卷繞性;

其二,鍍膜過程具有連續(xù)性,即在一個工作周期內(nèi)鍍膜是連續(xù)進行的;

其三,鍍膜過程始終在高真空環(huán)境中進行。

由以上特征可知:其基本結(jié)構(gòu)必須有卷繞傳動,有卷材(基材)的放卷和收卷。在放卷和收卷的過程中基材被鍍上薄膜。鍍膜部分就是真空卷繞鍍膜設(shè)備的工作部。它位于基材的收放卷之間。工作部的工作原理可以是前述的電阻蒸發(fā)、感應(yīng)蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射或者其它真空鍍膜方法中的任一種。

要維持工作周期內(nèi)鍍膜過程的連續(xù)性,就要求鍍材(沉積材料)足夠多。在蒸發(fā)卷繞鍍中就要求有足夠大的坩堝,或者有連續(xù)的送料機構(gòu);在磁控濺射中要求有足夠大的靶材。要有一個真空的環(huán)境,以上裝置需置于一個密封的真空容器中,并有一套真空機組,以維持工作周期內(nèi)真空度的穩(wěn)定性。

這樣,一臺典型的真空卷繞鍍膜設(shè)備就初具雛形了。當(dāng)然,在卷繞系統(tǒng)中為保證膜層的均勻性,要做到卷繞系統(tǒng)線速度的恒定;為保證基材的平整度和收卷不跑偏,要做到卷繞系統(tǒng)基材張力的恒定,并要有基材展平裝置。在鍍膜部分須有擋板和水冷裝置,在連續(xù)送蒸鍍材料的機構(gòu)中,送料速度必須實現(xiàn)恒定并可調(diào).

至成真空機械/高真空卷繞式鍍膜設(shè)備

該鍍膜設(shè)備是用于聚脂薄膜或經(jīng)過處理的紙張表面真空噴鍍金屬鋁膜的設(shè)備，在10的負2次方帕的真空氣氛中，鋁被連續(xù)加熱蒸發(fā)，在被冷卻的基材表面凝固，形成致密的金屬鋁膜，從而制成金屬化材料，用以生產(chǎn)各種金屬化包裝、裝璜及保溫絕熱材料和電氣材料。主要解決的技術(shù)問題有：

①蒸鍍紙張的真空抽氣能力;

②高速鍍膜時蒸發(fā)鋁的效率問題;

③高速卷繞時基材張力控制;

④真空抽氣過程的微機控制。其主要技術(shù)參數(shù)：鍍膜材料為：紙(35～80克/平方公尺)或薄膜12～50μ;卷繞速度180公尺/分;抽氣時間8分鐘;工作真空6.5×10的負2次方Pa;控制方式為部分微機控制。該機是國內(nèi)替代進口同類設(shè)備的良好機型

真空高溫軸承在臥式蒸發(fā)真空鍍膜機方面的應(yīng)用

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

我們詳細介紹真空軸承在蒸發(fā)式真空鍍膜機上的應(yīng)用，蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

軸承安裝部位如圖片所示管軸的兩端，內(nèi)部數(shù)十個類似的安裝單元。由于機體內(nèi)溫度較高，普通軸承難以承受數(shù)百攝氏度高溫真空工作環(huán)境，油脂潤滑、石墨潤滑的軸承產(chǎn)品在高溫真空環(huán)境內(nèi)運轉(zhuǎn)過程中會帶來油脂和石墨粉塵的污染，同時軸承短時間報廢，導(dǎo)致產(chǎn)品的生產(chǎn)不合格。

我司所設(shè)計此款高溫軸承，結(jié)合實際工作環(huán)境，采用高溫自潤滑的工作方式；通過長期驗證達到了壽命長，免維護，潔凈度高，不會帶來污染，由此保證該機的正常運轉(zhuǎn)。產(chǎn)品安裝更換簡單，大大的提高了機器的運轉(zhuǎn)時間和效率，減少了機器維護保養(yǎng)得次數(shù)和保養(yǎng)成本。