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自動(dòng)鍍膜設(shè)備廠家-至成真空科技-鍍膜設(shè)備

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發(fā)布時(shí)間:2021-10-04 04:04  








真空鍍膜過(guò)程的均勻性到底多重要?


真空鍍膜過(guò)程非常復(fù)雜,由于鍍膜原理的不同分為很多種類,僅僅因?yàn)槎夹枰哒婵斩榷鴵碛薪y(tǒng)一名稱。所以對(duì)于不同原理的真空鍍膜,影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個(gè)概念本身也會(huì)隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。

薄膜均勻性的概念:

1、厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長(zhǎng)作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好,可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi),也就是說(shuō)對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō),真空鍍膜沒(méi)有任何障礙。

但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說(shuō)要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整,是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在,具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。


2、化學(xué)組分上的均勻性:

就是說(shuō)在薄膜中,化合物的原子組分會(huì)由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過(guò)程不科學(xué),那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分,這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。

3、晶格有序度的均勻性:

這決定了薄膜是單晶,多晶,非晶,是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問(wèn)題,具體見(jiàn)下。

主要分類有兩個(gè)大種類:一、對(duì)于蒸發(fā)鍍膜:一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái),并且沉降在基片表面,通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。


厚度均勻性主要取決于:1、基片材料與靶材的晶格匹配程度;2、基片表面溫度;3、蒸發(fā)功率,速率;4、真空度;5、鍍膜時(shí)間,厚度大小。

組分均勻性:蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調(diào)控的因素同上,但是由于原理所限,對(duì)于非單一組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。

晶向均勻性:1、晶格匹配度;2、基片溫度;3、蒸發(fā)速率.



真空鍍膜機(jī)保養(yǎng)的重要性


大家都知道,真空鍍膜機(jī)的運(yùn)行狀況會(huì)直接影響鍍膜成品的質(zhì)量,為了更好的運(yùn)行,要對(duì)真空鍍膜機(jī)進(jìn)行維護(hù)和保養(yǎng),那么,那么知道真空鍍膜機(jī)維護(hù)和保養(yǎng)的意義嗎?下面,小編給大家講解一下它們的意義。

設(shè)備的日常維護(hù)保養(yǎng)是在生產(chǎn)中發(fā)現(xiàn)不正常現(xiàn)象,盡快解決。發(fā)現(xiàn)機(jī)械泵油減少要添加,不要認(rèn)為油要定期才更換,否者到了維護(hù)時(shí),泵的轉(zhuǎn)子可能會(huì)磨損嚴(yán)重。例如,一些軸承工件轉(zhuǎn)架卡,要更換軸承,否者等到它完全破碎,問(wèn)題可就大了,可能會(huì)出現(xiàn)電機(jī)燒毀等問(wèn)題。

定期維護(hù)保養(yǎng),有些人會(huì)問(wèn)一個(gè)日常維護(hù)和定期維護(hù)的區(qū)別?實(shí)際上,每個(gè)設(shè)備都有使用壽命,例如,擴(kuò)散泵用的硅油,使用壽命為兩年左右,我們提早更換,這是浪費(fèi)嗎?不是,在生產(chǎn)中不希望出現(xiàn)設(shè)備故障,把日常維護(hù)保養(yǎng)和定期維護(hù)保養(yǎng)都做好了,不僅延長(zhǎng)了設(shè)備的使用壽命,還減少了運(yùn)行故障,提高生產(chǎn)效率。



真空鍍膜設(shè)備的環(huán)境要求


由于真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作,因此該設(shè)備要滿足真空對(duì)環(huán)境的要求。

我國(guó)制定的各種真空鍍膜設(shè)備的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)(包括真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件、真空離子鍍膜設(shè)備、真空濺射鍍膜設(shè)備、真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備)都對(duì)環(huán)境要求作了明確規(guī)定。只有滿足了真空鍍膜設(shè)備對(duì)環(huán)境的要求,才能使該設(shè)備正常運(yùn)轉(zhuǎn),加上正確的鍍膜工藝,方能生產(chǎn)出合格的鍍膜產(chǎn)品。


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