離子真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝及鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法

不銹鋼基材通常會(huì)用拋光、拉絲、噴砂、化學(xué)蝕刻、激光雕刻、數(shù)控機(jī)床雕刻等作表面美工處理，有的還用激光焊接，水法電鍍鎳鉻層等。那么離子真空鍍膜機(jī)啟到了很關(guān)鍵的作用，今天至成小編為大家講解一下離子真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝及鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法。

其實(shí)大家都知道，以上介紹幾種不銹鋼基材表面處理方法，各自有各自的優(yōu)勢(shì)和劣勢(shì)。如：拋光作業(yè)會(huì)在工件上殘留難以去除的硬化了的拋光蠟；尼龍輪拉絲在拉絲溝上會(huì)殘留透明的不易發(fā)現(xiàn)的高分子化合物；砂輪拉絲可能殘留磨粒和粘結(jié)劑，或因摩擦過熱產(chǎn)生氧化皮；噴砂會(huì)有陶瓷砂粒﹑玻璃砂粒、氧化鋁砂粒殘留鑲嵌在表面上；化學(xué)蝕刻會(huì)有腐蝕產(chǎn)物殘留在腐蝕坑內(nèi)，或在其它非腐蝕表面上殘留用于防腐蝕的保護(hù)物質(zhì)；激光雕刻處理會(huì)產(chǎn)生高溫氧化皮和燒蝕基體碎片殘留；數(shù)控機(jī)床雕刻會(huì)有高溫氧化皮和切削油殘留，還會(huì)有基材碎片被壓入基體上；激光焊接也會(huì)導(dǎo)致高溫氧化等；水法電鍍鉻層會(huì)生成難以去除的復(fù)雜氧化物，這些處理引起的污染不清除會(huì)導(dǎo)致離子鍍過程打火、鍍層假附著、掉膜、顏色不均等不良。

在離子真空鍍膜機(jī)鍍產(chǎn)品中美工處理方式往往不是單一的，而是多種作業(yè)組合，這更增加了鍍前清洗的困難。采用傳統(tǒng)的超聲去油除蠟的方法是不能勝任的，必須調(diào)整清洗工藝，對(duì)不同的污染，可選擇機(jī)械清除、氣相清洗﹑真空加熱后再清洗、陰極電解﹑陽極電解、或采用針對(duì)性的清洗劑等等。這些綜合措施可取得較好的效果，但對(duì)有些污染仍未找到理想的解決辦法。新近等離子體拋光方法應(yīng)用到鍍前清洗是值得關(guān)注的技術(shù)，該技術(shù)在某些鍍層的褪鍍?nèi)〉昧己眯Ч?/p>

PVD硬質(zhì)涂層真空鍍膜機(jī)應(yīng)用介紹及它的系統(tǒng)特點(diǎn)

PVD超硬質(zhì)涂層（工模具）真空鍍膜機(jī)是當(dāng)今世界上用于表面涂裝PVD膜層的先進(jìn)設(shè)備,運(yùn)用PLC及觸摸屏實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化邏輯程序控制操作,設(shè)備結(jié)構(gòu)合理、外觀優(yōu)雅、性能穩(wěn)定、操作達(dá)到人機(jī)對(duì)話，簡(jiǎn)便，鍍出的膜層牢固且細(xì)密，是工業(yè)化生產(chǎn)的理想設(shè)備，其特點(diǎn)是它的環(huán)保性，真空鍍膜設(shè)備屬于無三廢、無污染的清潔生產(chǎn)設(shè)備，無須審批。由于配有先進(jìn)的電器控制系統(tǒng)及穩(wěn)定的工藝界面,針對(duì)各種金屬進(jìn)行表面鍍膜.例如:鐘表行業(yè)(表帶、表殼、表盤等)、五金行業(yè)（衛(wèi)生潔具、門把手、拉手、門鎖等）、建筑行業(yè)（不銹鋼板、樓梯扶手、立柱等）、精密模具業(yè)（沖棒標(biāo)準(zhǔn)件模具、成型模具等）、工具行業(yè)（鉆頭、硬質(zhì)合金、銑刀、拉刀、刀頭）、汽車工業(yè)（活塞、活塞環(huán)、合金輪轂等）以及鋼筆、眼鏡等等，使其表面得到既美觀又耐磨的功能性磨層.主要鍍制的膜層有:離子金、離子銀、氮化鈦膜、碳化鈦膜、氮化鋯膜、鈦鋁合金膜、氮化鉻以及RP鍍等超硬功能性金屬膜，經(jīng)離子鍍膜加工后的工件，可以提高硬度、耐磨度，抗腐蝕和美化的作用?？慑冎祁伾锈伣鹣盗?、鋯金系列、拉絲系列、黑色系列、彩色膜層系列共十多種色系。

PVD真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)工藝步驟及原理

廠家在采購PVD真空鍍膜機(jī)時(shí)，商家都會(huì)培訓(xùn)PVD真空鍍膜機(jī)的相關(guān)知識(shí)，如鍍膜技術(shù)工藝步驟、原理、保養(yǎng)維護(hù)方法，機(jī)器的運(yùn)行注意事項(xiàng)等等，今天至成小編為大家介紹一下PVD真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)工藝步驟和原理。

PVD真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)工藝步驟，分為以下四個(gè)步驟：

（1）清洗工件：接通直流電源，Ar氣進(jìn)行輝光放電為Ar離子，Ar離子轟擊工件表面，工件表層粒子和臟物被轟濺拋出；

（2）鍍料的氣化：即通入交流電后，使鍍料蒸發(fā)氣化。

（3）鍍料離子的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過碰撞以及高壓電場(chǎng)后，高速?zèng)_向工件；

（4）鍍料原子、分子或離子在基體上沉積：工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時(shí)，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

如果是鍍離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動(dòng)能，高速轟擊工件時(shí)，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴(kuò)散層，離子鍍的界面擴(kuò)散深度可達(dá)四至五微米，也就是說比普通真空鍍膜的擴(kuò)散深度要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢。