什么是真空鍍膜設備的虛漏及漏孔？

一、虛漏：

虛漏是由于設計或制造加工工藝不當，在真空鍍膜設備內(nèi)形成貯存氣源的洞穴，這些氣體在真空環(huán)境下慢慢釋放出來，形同漏氣，簡稱虛漏。

例如，真空鍍膜設備內(nèi)的緊固螺釘沒有出氣孔，焊縫交叉設計，焊接不完善留有孔穴等都會造成虛漏現(xiàn)象。

二、漏孔：

漏孔是真空鍍膜設備內(nèi)的電真空器件中直徑微米數(shù)量級的小漏孔，空氣中的塵?；蛞后w都很容易造成漏孔的堵塞，這些就算你當時修理好了也是暫時性的，檢漏時好像不漏，但經(jīng)過抽氣之后，又會出現(xiàn)漏氣。

所以為了檢查，一定要仔細處理好檢漏部位，盡量不用手去摸被檢測區(qū)域，避免塵?；蛴椭氯┛住?/p>

氧化物怎么鍍膜？

氧化物鍍膜過程是很復雜的，但其主要影響因素就是鍍膜原料成膜的時候凝聚力、鍍膜與基材的吸附力及基材溫度，而三者之間又相互關聯(lián)約束。那氧化物的鍍膜到底是怎么個過程呢？下面我們就來聽聽真空鍍膜設備至成真空科技的講解！

從蒸發(fā)源射出的蒸汽流脫離蒸鍍原料表面的時候溫度很高，能量也比較高，在上升通過蒸發(fā)區(qū)到達基材表面的過程中，由于碰撞、運動中的能量交換導致動能下降，到達基材表面的粒子很快與基材交換能量，迅速沉積在其表面。

在鍍膜工藝中，離子轟擊改善基材的表面，在蒸發(fā)區(qū)建立等離子氣體以提高氣化微粒功能等輔助手段，較好地解決了鍍膜與基材結(jié)合牢固度的問題。其實在眾多的鍍膜工藝里，氧化物鍍膜工藝和程序是有非常大的難度的，因為它面臨著很多因素影響，環(huán)境和材料等等，但是氧化物的鍍膜工藝卻是受到廣大的企業(yè)生產(chǎn)的親睞。所以這種鍍膜工藝和設備的發(fā)展趨勢會越來越好！

四種常見的真空鍍膜材料

1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鈮Nb2O5，五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3，氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。

3.其它化合物：硫化鋅ZnS，硒化鋅ZnSe，氮化鈦TiN，碳化硅SiC，鈦酸鑭LaTiO3，鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，等真空鍍膜材料。

4.金屬鍍膜材料：高純鋁Al，高純銅Cu，高純鈦Ti，高純硅Si，高純金Au，高純銀Ag，高純銦In，高純鎂Mg，高純鋅Zn，高純鉑Pt，高純鍺Ge，高純鎳Ni,高純金Au，金鍺合金AuGe，金鎳合金AuNi，鎳鉻合金NiCr，鈦鋁合金TiAl，鋅鋁合金ZnAl，鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。