真空鍍膜設備需要的環(huán)境要求

真空鍍膜設備要在真空條件下工作，因此該設備要滿足真空對環(huán)境的要求。真空對環(huán)境的要求，一般包括真空設備對所處實驗室（或車間）的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求，和對處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個方面。

這兩個方面是有密切聯(lián)系的。周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設備的正常使用；而真空設備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒有經(jīng)過清洗的情況下用油封機械泵去抽氣，要達到預期的真空度很難的。眾所周，油封式機械泵不宜抽除對金屬有腐蝕性、對真空油其反應的以含有顆粒塵埃的氣體。水蒸氣為可凝性氣體，當大量抽除可凝性氣體時，對泵油的污染會更加嚴重，結果使泵的極限真空下降，破壞了泵的抽氣性能。

工業(yè)環(huán)境中的粉塵是以粉狀體、眼無題、粉塵來區(qū)分的。粉狀體是粉末或固體顆粒的集合或分散狀態(tài)的物質(zhì)。所謂粉末是指微小的固體顆粒的集合，而顆粒是指能夠一個一個計數(shù)的微小物質(zhì)。煙霧體是以固體或液體的微小顆粒呈浮狀態(tài)存在于氣體中的物質(zhì)體系。物質(zhì)無論是固體還是液體，凡是呈顆粒狀態(tài)均可統(tǒng)稱為塵粒。以塵粒直徑的大小來確定空氣清潔度的標準，從而定制出潔凈室的等級。不僅適合于有潔凈要求的工業(yè)部門，也適合于真空對潔凈環(huán)境的要求。

真空鍍膜機是如何操作真空電阻式蒸發(fā)鍍膜機的

隨著真空鍍膜機的工藝發(fā)展不斷革新，而硬質(zhì)薄膜的設計向著多元化、多層膜的方向發(fā)展。成為現(xiàn)代企業(yè)優(yōu)選的鍍膜工藝。今天我們通過中國真空協(xié)會的剖析后，給予詳細作答。其實鍍膜機的正常操作方法應該參考操作手冊的指示操作。

不過大致的操作程序，我們簡單的說一下吧：

1、檢查真空鍍膜設備各操作控制開關是否在;關位置。

2、打開總電源開關，真空鍍膜設備送電。

3、低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。

4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無任何雜質(zhì)污物。

5、落下鐘罩。

6、啟動真空鍍膜設備抽真空機械泵。

7、開復合真空計電源（復合真空計型號：Fzh-1A)。

8、多弧離子鍍膜機當?shù)驼婵毡?amp;ldquo;2”內(nèi)指針再次順時針移動至6.7Pa時，低壓閥推入。

9、真空鍍膜設備開通冷卻水，啟動擴散泵，加熱40min。

10、低壓閥拉出。立式單開門鍍膜機重復一次⑦動作程序：左下旋鈕;轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。低真空表;內(nèi)指針順時針移動，當指針移動至6.7Pa時，開高壓閥。

真空鍍膜機的特點

真空電鍍即真空蒸發(fā)鍍膜﹐其原理是在高度真空條件下(1.3×10-2~1.3×10-1Pa)使金屬鋁片受熱蒸發(fā)并附于(塑料)工件表面﹐形成一層金屬膜的方法﹒

真空鍍膜設備真空電鍍機真空電鍍的特點:

1、真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um),能夠嚴格生產(chǎn)出啤件表面的形狀

2、工作電壓不是很高(200V)﹐操作方便﹐但設備較昂貴﹒

3、蒸鍍鍋瓶容積小﹐電鍍件出數(shù)少﹐生產(chǎn)效率較低﹒

4、只限于比鎢絲熔點低的金屬(如鋁﹑銀﹑銅﹑金等)鍍飾﹒

5、對鍍件表面質(zhì)量要求較高﹐通常電鍍前需打底油來彌補工件表面缺陷﹒

6、真空鍍膜可以鍍多種塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等﹒