多弧離子真空磁控濺射鍍膜機工作原理蒸發(fā)系統(tǒng)的結構與工作原理介紹

多弧離子鍍膜機是一種、無害、無污染的離子鍍膜設備，具有堆積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡略、本錢低、出產量大的長處。

真空多弧離子鍍膜機偏壓電源的作業(yè)原理

離子鍍膜正本是離子濺射鍍膜，關于導電靶材，運用直流偏壓電源；非導電靶材，運用脈沖偏壓電源。有的多弧離子鍍膜機，可能還需求直流電弧電源或脈沖電弧電源

偏壓電源正本即是在陰極和樣品所在位置的陽極之間構成偏壓電場，通常是陰極加負高壓。陰極外表的自由電子在電場效果下定向加快發(fā)射，發(fā)射電子炮擊氣體分子，使之電離，并且氣體被驅出的電子被電場加快，持續(xù)電離別的氣體分子，接二連三，構成雪崩效應，氣體被擊穿，構成穩(wěn)定的電離電流。此刻離子也被加快，炮擊靶材，將靶材中的原子驅除出外表，并堆積在樣品外表。

鍍膜行業(yè)發(fā)展的趨勢

當今鍍膜行業(yè)制作方式主要有兩種，一種是化學氣象沉積，一種是化學鍍膜（CVD），一種是物理氣象沉積，也就是真空鍍膜（PVD）。

化學鍍膜是把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應所需其他氣體引入反應室，在襯底表面發(fā)生化學反應生成薄膜的過程。在化學薄膜的過程中，容易產生溶液污染，如果鍍層表面雜質多，鍍出來的效果不好。

化學鍍膜需要的反應溫度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基體材料是無法受此高溫，及時硬質合金，雖然能經受高溫，但在化學鍍膜制作的環(huán)境下由于高溫也會造成晶粒粗大，引起脆性相，性能變壞。如果在硬質合金上鍍TiN，晶體擴散出來的碳會與溶液發(fā)生反應形成脫碳層，該層韌性差，抗彎強度低，造成刀具使用壽命縮短。

真空鍍膜機很好的解決了化學鍍膜產生的一系列問題。真空鍍膜是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電技術，利用其他放電是靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質及反應產物沉積在工件上。

所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，解決了化學鍍膜中的溶液污染問題，不會產生有毒或污染物質，鍍出來的膜層硬度更高，耐磨性和腐蝕性好，性能更穩(wěn)定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150℃~500℃以下，適用于多種基體材料，可制備多姿多彩的膜層，鍍制硬質合金刀具可使其壽命提高2~10倍。

在鍍膜的過程中，出現異樣具體該真么處理呢？

大家在鍍膜的過程中，可能有時候會發(fā)現，膜層上有時會出現白點的異樣發(fā)生，經過技術人員的檢測和排查，大部分都是因為產品周轉運輸或在爐內生產時素材受到污染，產品表面有塵點、毛絲等，PVD出爐后灰塵脫落露出底材顏色。所以大家在使用真空磁控濺射鍍膜機鍍膜過程中縮短產品在爐外停滯時間及爐內潔凈度管控，減少異物掉落在產品表面。有時膜層也會出現掉膜（點狀掉膜、局部掉膜、邊緣掉膜）情況，不知道大家有沒有碰到過。它主要產生的原因是產品表面臟污，膜層無法在產品上沉積或結合力差，在自然或人為的因素下產品表面漏出底材，所以大家在鍍膜前，一定要把產品清洗干凈，避免污染產品，確保表面潔凈度。還有一種經常出現的情況，就是出現彩虹紋（產品發(fā)彩，出現這種情況主要原因是彩虹紋主要體現在顏色較深的產品上，因生產過程中形成一定角度遮擋，膜層無法均勻、有效的覆蓋在產品表面。因此鍍膜的時候，要更改更改裝夾方式，或者提高成膜能量。有的客戶會發(fā)現，產品鍍膜出來后會出現臟污情況，導致出現這個主要原因是產品出爐后周轉過程中因人為因素造成的表面污染,解決流程是產品PVD下掛、檢查、打包作業(yè)人員手套、指套潔凈度及環(huán)境管控。