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杭州鍍膜機(jī)-至成鍍膜機(jī)廠家供應(yīng)-AF鍍膜機(jī)廠家

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發(fā)布時(shí)間:2021-09-10 02:04  








真空鍍膜技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)分析


真空鍍膜技術(shù)優(yōu)點(diǎn)表現(xiàn)在哪里?真空鍍膜技術(shù)在塑料制品上的應(yīng)用廣泛,真空鍍膜機(jī)廠表示,塑料具有易成型,成本低,質(zhì)量輕,不腐蝕等特點(diǎn),塑料制品應(yīng)用廣泛,但因其缺點(diǎn)制約了擴(kuò)大應(yīng)用。通過真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用,使塑料表面金屬化,將有機(jī)材料和無機(jī)材料結(jié)合起來,大大提高了它的物理、化學(xué)性能。真空鍍膜技術(shù)優(yōu)點(diǎn)主要表現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:

1、使塑料表面有導(dǎo)電性;

2、容易清洗,不吸塵。

3、改善美觀,表面光滑,金屬光澤彩色化,裝飾性大大提高;

4、減少吸水率,鍍膜次數(shù)愈多,孔愈少,吸水率降低,制品不易變形,提高耐熱性;

5、改善表面硬度,原塑膠表面比金屬軟而易受損害,通過真空鍍膜技術(shù),硬度及耐磨性大大增加;

6、可以提高耐候性,一般塑料在室外會(huì)老化的非???,主要原因是紫外線照射所致,而鍍鋁后,鋁對(duì)紫外線反射強(qiáng),所以耐候性大大提高。



真空鍍膜機(jī)設(shè)備真空鍍膜機(jī)系統(tǒng)特點(diǎn)


真空鍍膜機(jī)在等離子體束濺射中,濺射離子均勻刻蝕靶面,并且不會(huì)使靶面產(chǎn)生氧化。與磁控濺射相比,其中的等離子體束是由射頻等離子體源產(chǎn)生的,磁場(chǎng)的作用則是使等離子體束會(huì)聚并偏轉(zhuǎn)至靶面,因此,雖然等離子體束濺射鍍膜系統(tǒng)內(nèi)也有磁場(chǎng),但其磁場(chǎng)卻并不控制影響濺射,這也摒棄了磁控濺射中由磁場(chǎng)不均勻帶來的“磁控”的缺點(diǎn)。在濺射完成后,所得的靶材利用率可高達(dá)90%以上。

真空鍍膜機(jī)即分別進(jìn)行磁控濺射和等離子體束濺射之后靶面刻蝕的對(duì)比圖。由于靶材的利用率大幅度提高,也解決了磁控濺射中所難以克服的缺點(diǎn),即靶中的毒導(dǎo)致的刻蝕不均勻

真空鍍膜機(jī)此外,磁控濺射由于背面磁鐵磁場(chǎng)不均勻而產(chǎn)生濺射跑道,非磁場(chǎng)約束區(qū)很容易產(chǎn)生氧化,因此很難沉積鐵磁性材料,而等離子體束濺射中由于不用磁鐵作為等離子體約束,能夠進(jìn)行鐵磁性材料的鍍膜,并且可以使用很厚的靶材,圖3中實(shí)驗(yàn)金屬鈷的厚度即為6mm。對(duì)于鐵、鎳、鉻以及鐵磁性化合物,等離子體束濺射也都具有很高的濺射速率。

應(yīng)用該項(xiàng)鍍膜技術(shù)的系統(tǒng)還有一個(gè)優(yōu)點(diǎn),當(dāng)將電磁線圈的極性反接時(shí),由于磁場(chǎng)的方向產(chǎn)生了變化,等離子體束會(huì)在磁場(chǎng)的作用下轟擊基片,從而對(duì)基片產(chǎn)生清洗作用,如圖4所示。這實(shí)際上可以使得應(yīng)用該項(xiàng)技術(shù)的鍍膜機(jī)省略常規(guī)鍍膜機(jī)的清洗用離子源。


真空鍍膜機(jī)分類


真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,包括真空離子蒸發(fā)鍍膜機(jī)、磁控濺鍍膜機(jī)射、MBE分子束外延鍍膜機(jī)和PLD激光濺射沉積鍍膜機(jī)等很多種。主要是分成蒸發(fā)和濺射兩種。在真空鍍膜設(shè)備中需要鍍膜的被成為基片,鍍的材料被成為靶材?;c靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程形成薄膜。真空鍍膜機(jī)對(duì)于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,終形成薄膜。爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。

根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型鍍膜設(shè)備,其類型有電阻蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、磁控濺射真空鍍膜設(shè)備、離子鍍真空鍍膜設(shè)備、磁控反應(yīng)濺射真空鍍膜設(shè)備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。夾具運(yùn)轉(zhuǎn)形式有自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn) 自轉(zhuǎn)方式,用戶可根據(jù)片尺寸及形狀提出相應(yīng)要求,轉(zhuǎn)動(dòng)的速度范圍及轉(zhuǎn)動(dòng)精度:普通可調(diào)及變頻調(diào)速等。


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