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電池蓋帽鍍鎳走位劑-電池蓋帽鍍鎳走位劑零售底價(jià)-銘豐化工

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發(fā)布時(shí)間:2021-09-09 10:04  





      新配溶液的凈化技術(shù)(1)在一個(gè)獨(dú)立的處理槽中注入1/3~2/3的純凈水,在溫度上升至40~50℃時(shí)溶解所需配槽量的和。(2)添加1~2mL/L體積分?jǐn)?shù)為30%的,短暫攪拌,靜置沉淀1h。(3)添加1.2~2.5g/L活性炭,充分?jǐn)嚢琛?4)加熱溶液至60~65℃,添加碳酸鎳,在攪拌下調(diào)節(jié)pH值至5.2~5.5。如果要使用更多的碳酸鎳,必須使用攪拌輔助溶解,靜置沉淀8~16h。

   

      (5)過(guò)濾至電鍍槽。(6)添加和溶解硼酸,加水至要求體積?;?yàn)槽液成分是否合格,并調(diào)配。(7)使用大面積的鍍鎳瓦楞鋼板作為陰極電解凈化。平均電流密度為0.5A/dm2,0.5~1.5A·h/L電解。溶液應(yīng)攪拌,并保持溫度在50~60℃。檢測(cè)在普通電流密度下獲得的試鍍層的某些點(diǎn)來(lái)評(píng)估外觀、應(yīng)力和鍍層中含硫量。如果達(dá)不到要求,繼續(xù)電解。(8)去掉電解陰極,電池蓋帽鍍鎳走位劑廠家聯(lián)系電話,調(diào)節(jié)pH值到工藝規(guī)定的范圍內(nèi)。


紫外光燈照射試驗(yàn)

紫外光燈照射老化試驗(yàn)利用熒光紫外光燈模擬太陽(yáng)光對(duì)耐久性材料的破壞性作用。

這與前面提到的氙弧燈有區(qū)別,熒光紫外燈在電學(xué)原理上與普通的照明用冷光日光燈相似,但能生成更多的紫外光而非可見(jiàn)光或紅外光。



對(duì)于不同的暴曬應(yīng)用,有不同類(lèi)型的具有不同光譜的燈供選擇。

UVA-340型的燈在主要的短波長(zhǎng)紫外光光譜范圍能很好地模擬太陽(yáng)光。UVA-340燈的光譜能量分布(SPD)與從太陽(yáng)光譜中360nm處分出的光譜圖很近似。

UV-B型燈也是通常使用的加速人工氣候老化試驗(yàn)用燈。它比UV-A型燈對(duì)材料的破壞速度更快但其比360nm更短的波長(zhǎng)能量輸出對(duì)很多材料會(huì)造成偏離實(shí)際的試驗(yàn)結(jié)果。

輻照度(光強(qiáng)度)控制對(duì)于獲得準(zhǔn)確而有重現(xiàn)性的結(jié)果是很有必要的。

大多數(shù)紫外光老化試驗(yàn)裝置都配備了輻照度控制系統(tǒng)。這些的輻照度控制系統(tǒng)使用戶(hù)做試驗(yàn)時(shí)能選擇輻照度。通過(guò)反饋控制系統(tǒng),輻照度能被連續(xù)和自動(dòng)地監(jiān)控并地得到控制。

控制系統(tǒng)通過(guò)調(diào)節(jié)燈管的功率而自動(dòng)地對(duì)因燈管老化或其他原因造成的照度不足進(jìn)行補(bǔ)償。



電鍍?nèi)硕贾?,滾鍍時(shí)為了加快鍍速,提高生產(chǎn)效率,總會(huì)采用加大電流的辦法(其實(shí)掛鍍也一樣),但前提是不能產(chǎn)生其他影響(主要是“燒焦”)。就像炒菜時(shí)在不“糊菜”的前提下,開(kāi)大火可以使菜熟得快一點(diǎn)一樣。但滾鍍生產(chǎn)中有時(shí)會(huì)發(fā)現(xiàn),電池蓋帽鍍鎳走位劑零售底價(jià),使用的電流并沒(méi)有加大,而鍍速卻會(huì)加快甚至快得多。舉例說(shuō)明。

比如,一種小尺寸接插件滾鍍金,開(kāi)始使用孔徑較小的圓孔滾筒,后換用相同規(guī)格的0.7mm×5.5mm長(zhǎng)條形孔滾筒,電池蓋帽鍍鎳走位劑,結(jié)果發(fā)現(xiàn),使用相同的電流,施鍍相同的時(shí)間,鍍層厚度大大超出規(guī)定值。說(shuō)明換用0.7mm×5.5mm滾筒后,電池蓋帽鍍鎳走位劑批發(fā)商,在電流并沒(méi)有加大的情況下,鍍層沉積速度加快。

再如,一種小尺寸電子產(chǎn)品滾鍍錫,使用網(wǎng)孔滾筒,比使用相同規(guī)格的孔徑較小的圓孔滾筒,在相同的電流下鍍速加快了近一倍。

這種例子滾鍍生產(chǎn)中還很多,不再一一列舉。電流并沒(méi)有加大,鍍速卻會(huì)加快,為什么會(huì)這樣呢?

其實(shí),決定鍍層沉積速度的因素不只有電流(密度),此外還有一個(gè)重要因素——(陰極)電流效率。鍍層沉積速度關(guān)系式可簡(jiǎn)單表示如下。

V∝Dkηk                                                                                      

式中  V——鍍層沉積速度;

Dk——電流密度;

ηk——電流效率。





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