真空鍍膜機的全新發(fā)展真空泵與隔膜泵機械密封的安裝與使用真空鍍膜機的發(fā)展相當迅速，隨著生產(chǎn)率的提高，生產(chǎn)費用大大降低，已經(jīng)為真空鍍膜產(chǎn)品的普遍使用鋪平了道路。以卷繞式真空鍍膜機為例，剛開發(fā)時可鍍的薄膜基材寬度是150mm，目前已達2253mm?；木硗驳拇缶韽绞?000mm，大卷繞速度750m/min。自動裝卸的半連續(xù)卷繞式真空鍍膜機鍍膜時間占整個周期的75%，輔助操作時間只占25%。隨著計測技術、控制技術的進步和電子計算機的應用，卷繞式真空鍍膜機正向著高度自動化和高度可靠性的方向發(fā)展。

真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術，通常稱為干式鍍膜技術。

真空鍍膜技術一般分為兩大類，即物理氣相沉積（PVD）技術和化學氣相沉積（CVD）技術。

物理氣相沉積技術是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質(zhì)反應膜大多以物理氣相沉積方法制得，它利用某種物理過程，如物質(zhì)的熱蒸發(fā)，或受到離子轟擊時物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象，實現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移過程。物理氣相沉積技術具有膜/基結合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復性好等優(yōu)點。同時，物理氣相沉積技術由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因此可作為終的處理工藝用于高速鋼和硬質(zhì)合金類的薄膜刀具上。由于采用物理氣相沉積工藝可大幅度提高刀具的切削性能，人們在競相開發(fā)、高可靠性設備的同時，也對其應用領域的擴展，尤其是在高速鋼、硬質(zhì)合金和陶瓷類刀具中的應用進行了更加深入的研究。

化學氣相沉積技術是把含有構成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學反應，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學氣相沉積等。

全自動真空鍍膜機

適應于玻璃、塑膠等基片上鍍制各類光學薄膜和其它機能性裝飾薄膜的批量化生產(chǎn)

采用先進的電氣控制系統(tǒng)，良好的用戶操作界面，大大減輕作業(yè)人員的負擔

RCS自動鍍膜控制系統(tǒng)保證整個鍍膜過程自動完成

基片架轉(zhuǎn)動采用磁流體密封技術保證真空密封，中心驅(qū)動方式保證薄膜產(chǎn)品的均勻性及重復性

優(yōu)化的配置、嚴格的品質(zhì)控制保證產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定性和重復性

排氣速率.鍍膜效率的提高，大大縮短了產(chǎn)品生產(chǎn)周期