真空鍍膜機的特點

真空電鍍即真空蒸發(fā)鍍膜﹐其原理是在高度真空條件下(1.3×10-2~1.3×10-1Pa)使金屬鋁片受熱蒸發(fā)并附于(塑料)工件表面﹐形成一層金屬膜的方法﹒

真空鍍膜設(shè)備真空電鍍機真空電鍍的特點:

1、真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um),能夠嚴格生產(chǎn)出啤件表面的形狀

2、工作電壓不是很高(200V)﹐操作方便﹐但設(shè)備較昂貴﹒

3、蒸鍍鍋瓶容積小﹐電鍍件出數(shù)少﹐生產(chǎn)效率較低﹒

4、只限于比鎢絲熔點低的金屬(如鋁﹑銀﹑銅﹑金等)鍍飾﹒

5、對鍍件表面質(zhì)量要求較高﹐通常電鍍前需打底油來彌補工件表面缺陷﹒

6、真空鍍膜可以鍍多種塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等﹒

真空鍍膜機蒸發(fā)與磁控濺射鍍鋁性能

真空鍍膜機電子束蒸發(fā)與磁控濺射鍍鋁性能分析研究，為了獲得性能良好的半導(dǎo)體電極Al膜，我們通過優(yōu)化工藝參數(shù)，制備了一系列性能優(yōu)越的Al薄膜。通過理論計算和性能測試，分析比較了真空鍍膜設(shè)備電子束蒸發(fā)與磁控濺射兩種方法制備Al膜的特點。

嚴格控制發(fā)Al膜的厚度是十分重要的，因為Al膜的厚度將直接影響Al膜的其它性能，從而影響半導(dǎo)體器件的可靠性。對于高反壓功率管來說，它的工作電壓高，電流大，沒有一定厚度的金屬膜會造成成單位面積Al膜上電流密度過高，易燒毀。對于一般的半導(dǎo)體器件，Al層偏薄，則膜的連續(xù)性較差，呈島狀或網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，引起壓焊引線困難，造成不易壓焊或壓焊不牢，從而影響成品率;Al層過厚，引起光刻時圖形看不清，造成腐蝕困難而且易產(chǎn)生邊緣腐蝕和“連條”現(xiàn)象。

采用真空鍍膜機電子束蒸發(fā)，行星機構(gòu)在沉積薄膜時均勻轉(zhuǎn)動，各個基片在沉積Al膜時的幾率均等;行星機構(gòu)的聚焦點在坩堝蒸發(fā)源處，各個基片在一定真空度下沉積速率幾乎相等。采用真空鍍膜機磁控濺射鍍膜方法，由于沉積電流和靶電壓可以控制，也即是濺射功率可以調(diào)節(jié)并控制，因此膜厚的可控性和重復(fù)性較好，并且可在較大表面上獲得厚度均勻的膜層。

附著力反映了Al膜與基片之間的相互作用力，也是保證器件的重要因素。真空鍍膜設(shè)備濺射原子能量比蒸發(fā)原子能量高1-2個數(shù)量級。真空鍍膜機高能量的濺射原子沉積在基片上進行的能量轉(zhuǎn)換比蒸發(fā)原子高得多，產(chǎn)生較高的熱能，部分高能量的濺射原子產(chǎn)生不同程度的注入現(xiàn)象，在基片上形成一層濺射原子與基片原了相互溶合的偽擴散層，而且，在真空鍍膜設(shè)備成膜過程中基片始終在等離子區(qū)中被清洗，清除了附著力不強的濺射原子，凈化基片表面，增強了濺射原子與基片的附著力，因而濺射Al膜與基片的附著力較高。

真空鍍膜機冷卻配套冷水機的作用

真空鍍膜機冷卻配套冷水機的作用是維持真空鍍膜機器的溫度，使其工作達到、率控制溫度的目的。以前在沒冷水機的情況下，自然水和水塔散熱都不可避免地受到自然氣溫的影響，而且此方式控制是極不穩(wěn)定的。因此，可以說冷水機是真空鍍膜設(shè)備中非常重要的配套冷卻設(shè)備，因為冷水機直接關(guān)系到真空鍍膜機工作效果的好壞。

真空鍍膜機為什么要配套冷水機？

這個要從真空鍍膜工作原理查看：膜料在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜料分子會產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無光，所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細密光亮，如果真空度不高結(jié)晶體就會失去光澤，結(jié)合力也很差。

冷水機設(shè)有制冷系統(tǒng)和冷卻水循環(huán)系統(tǒng)，水溫在5℃～30℃范圍內(nèi)調(diào)節(jié)控制，可以達到、率控制溫度的目的。其冷卻原理是：制冷系統(tǒng)將水冷卻，再由水泵將低溫冷卻水送入真空鍍膜機進行降溫，冷水機冷凍水將熱量帶走后溫度升高再回流到水箱，達到冷卻的作用。