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正性光刻膠的操作工藝
(1)合成醛樹脂。將原料混和甲醛送人不銹鋼釜,加入適量草酸為催化劑,加熱回流反應(yīng)5~6h,然后減壓蒸餾去除水及未反應(yīng)的單體酚,NR9 3000PY光刻膠,得到醛樹脂。(2)合成感光劑。在裝有攪拌器的夾套反應(yīng)罐中,先將三羥基二苯甲酮和215酰氯加至中攪拌下溶解,待完全溶解后,滴加有機(jī)堿溶液做催化劑,控制反應(yīng)溫度30~35℃,滴加完畢后,繼續(xù)反應(yīng)1h。將反應(yīng)液沖至水中,感光劑析出,離心分離,干燥。(3)配膠。將合成的樹脂、感光劑與溶劑及添加劑按一定比例混合配膠,然后調(diào)整膠的各項(xiàng)指標(biāo)使之達(dá)到要求。后過濾分裝,NR9 3000PY光刻膠廠家,光刻膠首先經(jīng)過板框式過濾器粗濾,然后轉(zhuǎn)入超凈間(100級(jí))進(jìn)行超凈過濾,濾膜孔徑0.2mm,NR9 3000PY光刻膠多少錢,經(jīng)超凈過濾的膠液分裝即為成品。
光刻膠的組成部分
光刻膠一般由4種成分組成:樹脂型聚合物、光活性物質(zhì)、溶劑和添加劑。樹脂是光刻膠中占比較大的組分,構(gòu)成光刻膠的基本骨架,主要決定曝光后光刻膠的基本性能,包括硬度、柔韌性、附著力、耐腐蝕性、熱穩(wěn)定性等。光活性物質(zhì)是光刻膠的關(guān)鍵組分,對(duì)光刻膠的感光度、分辨率等其決定性作用。
分辨率、對(duì)比度和敏感度是光刻膠的核心技術(shù)參數(shù)。隨著集成電路的發(fā)展,芯片制造特征尺寸越來越小,對(duì)光刻膠的要求也越來越高。光刻膠的核心技術(shù)參數(shù)包括分辨率、對(duì)比度和敏感度等。為了滿足集成電路發(fā)展的需要,光刻膠朝著高分辨率、高對(duì)比度以及高敏感度等方向發(fā)展。
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光刻膠介紹
光刻膠可分為半導(dǎo)體光刻膠、面板光刻膠和PCB光刻膠。其中,半導(dǎo)體光刻膠的技術(shù)壁壘較高。
從技術(shù)水平來看,在PCB領(lǐng)域,國產(chǎn)光刻膠具備了一定的技術(shù)和量產(chǎn)能力,已經(jīng)實(shí)現(xiàn)對(duì)主流廠商大批量供貨。
賽米萊德以誠信為首 ,服務(wù)至上為宗旨。公司生產(chǎn)、銷售光刻膠,公司擁有強(qiáng)大的銷售團(tuán)隊(duì)和經(jīng)營(yíng)理念。想要了解更多信息,趕快撥打圖片上的熱線電話!
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