電鍍是利用電源能將鎳陽(yáng)離子轉(zhuǎn)換成金屬鎳沉積到陽(yáng)極上，用化學(xué)還原的方法是使鎳陽(yáng)離子還原成金屬鎳并沉積在基體金屬表面上，試驗(yàn)表明，鍍層中氫的夾入與化學(xué)還原反應(yīng)無(wú)關(guān)，而與電鍍條件有很大關(guān)系，通常鍍層中的含氫量隨電流密度的增加而上升。

在電鍍鎳液中，除了一小部分氫是由NiSO4和H2PO3反應(yīng)產(chǎn)生以外，大部分氫是由于兩極通電時(shí)發(fā)生電極反應(yīng)引起的水解而產(chǎn)生，在陽(yáng)極反應(yīng)中，伴隨著大量氫的產(chǎn)生，陰極上的氫與金屬Ni—P合金同時(shí)析出，環(huán)保鎳電鍍哪家優(yōu)惠，形成（Ni—P）H，環(huán)保鎳電鍍廠家，附著在沉積層中，由于陰極表面形成超數(shù)量的原子氫，環(huán)保鎳電鍍價(jià)格，一部分脫附生成H2，而來(lái)不及脫附的就留在鍍層內(nèi)，留在鍍層內(nèi)的一部分氫擴(kuò)散到基體金屬中，而另一部分氫在基體金屬和鍍層的缺陷處聚集形成氫氣團(tuán)，該氣團(tuán)有很高的壓力，在壓力作用下，缺陷處導(dǎo)致了裂紋，在應(yīng)力作用下，形成斷裂源，從而導(dǎo)致氫脆斷裂。氫不僅滲透到基體金屬中，而且也滲透到鍍層中，黃江環(huán)保鎳電鍍，據(jù)報(bào)道，電鍍鎳要在400℃×18h或230℃×48h的熱處理之后才能基本上除去鍍層中的氫，所以電鍍鎳除氫是很困難的，而化學(xué)鍍鎳不需要除氫。

經(jīng)過(guò)半個(gè)多世紀(jì)的研發(fā)，化學(xué)鍍鎳曾經(jīng)進(jìn)入開(kāi)展成熟期，其當(dāng)前的近況可以綜合為技術(shù)成熟、機(jī)能穩(wěn)定、功效多樣、用途寬泛?；瘜W(xué)鍍鎳沉積的鍍層具有與電沉積層差別的特征。

由于化學(xué)鍍鎳層的磷(硼)含量差別和鍍后熱處分工藝差別，鍍鎳層的物理化學(xué)特征也所變更，好比硬度、抗蝕機(jī)能、耐磨機(jī)能、電磁機(jī)能等，而其余鍍層種類較少。因此，化學(xué)鍍鎳的工業(yè)使用和工藝計(jì)劃具有多樣性的特點(diǎn)。

化學(xué)鍍鎳加工技術(shù)得到了不斷進(jìn)步，運(yùn)用越來(lái)越廣泛，電子作業(yè)便是其間的一個(gè)重要運(yùn)用?，F(xiàn)在電子與計(jì)算機(jī)作業(yè)開(kāi)展比較敏捷，而化學(xué)鍍鎳加工技術(shù)在電子作業(yè)中有很大的作用，所以相互促進(jìn)開(kāi)展。

這種工藝中所運(yùn)用的堆積劑為石灰乳，在一定的PH值下，廢液里所含的有毒物質(zhì)和大多數(shù)的鎳離子都會(huì)與堆積劑發(fā)作反應(yīng)而堆積到廢液底部，也可在廢液中參加一些氧化劑，意圖是將廢液中的有機(jī)物去除，有利于鎳離子加速反應(yīng)，還可減少?gòu)U水的需氧量。

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