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理論和實(shí)測光譜經(jīng)常存在著誤差。解決的方法通常有兩種，一種是通過工藝來控制這些偏離光學(xué)鍍膜的誤差，一種是修正現(xiàn)有軟件計(jì)算模型。具體采用哪種工藝，將通過后文中的具體案例來討論。

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在真空條件下成膜可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），塑膠漸變供應(yīng)商，以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入光學(xué)鍍膜中成為雜質(zhì)的量，塑膠漸變批發(fā)價(jià)格，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。

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光學(xué)鍍膜的基體放在陰極對(duì)面，塑膠漸變批發(fā)，把惰性氣體通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強(qiáng)約1.33～13.3Pa，湖北塑膠漸變，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的離子撞擊陰極。

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