真空鍍膜設(shè)備離子鍍的類型及特點(diǎn)是怎樣的?

真空鍍膜機(jī)離子鍍技術(shù)市場(chǎng)使用占比率非常高，鍍餐具，鍍家居，鍍飾品等都離不開離子鍍膜技術(shù)，離子鍍膜技術(shù)不僅僅在國內(nèi)受追捧，國外也是一樣受喜愛。那么，真空鍍膜設(shè)備離子鍍的類型及特點(diǎn)是怎樣的？下面至成小編為大家詳細(xì)介紹一下：

離子鍍是結(jié)合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術(shù)而發(fā)展起來的沉積技術(shù)。在真空條件下，采用適當(dāng)?shù)姆绞绞瑰兡げ牧险舭l(fā)，利用氣體放電使工作氣體和被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，在氣體離子和被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發(fā)、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據(jù)鍍膜材料不同的蒸發(fā)方式和氣體的離化方式，構(gòu)成了不同類型的離子鍍，下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質(zhì)廣、沉積速率快等優(yōu)點(diǎn)。

離子真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝及鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法

不銹鋼基材通常會(huì)用拋光、拉絲、噴砂、化學(xué)蝕刻、激光雕刻、數(shù)控機(jī)床雕刻等作表面美工處理，有的還用激光焊接，水法電鍍鎳鉻層等。那么離子真空鍍膜機(jī)啟到了很關(guān)鍵的作用，今天至成小編為大家講解一下離子真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝及鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法。

其實(shí)大家都知道，以上介紹幾種不銹鋼基材表面處理方法，各自有各自的優(yōu)勢(shì)和劣勢(shì)。如：拋光作業(yè)會(huì)在工件上殘留難以去除的硬化了的拋光蠟；尼龍輪拉絲在拉絲溝上會(huì)殘留透明的不易發(fā)現(xiàn)的高分子化合物；砂輪拉絲可能殘留磨粒和粘結(jié)劑，或因摩擦過熱產(chǎn)生氧化皮；噴砂會(huì)有陶瓷砂粒﹑玻璃砂粒、氧化鋁砂粒殘留鑲嵌在表面上；化學(xué)蝕刻會(huì)有腐蝕產(chǎn)物殘留在腐蝕坑內(nèi)，或在其它非腐蝕表面上殘留用于防腐蝕的保護(hù)物質(zhì)；激光雕刻處理會(huì)產(chǎn)生高溫氧化皮和燒蝕基體碎片殘留；數(shù)控機(jī)床雕刻會(huì)有高溫氧化皮和切削油殘留，還會(huì)有基材碎片被壓入基體上；激光焊接也會(huì)導(dǎo)致高溫氧化等；水法電鍍鉻層會(huì)生成難以去除的復(fù)雜氧化物，這些處理引起的污染不清除會(huì)導(dǎo)致離子鍍過程打火、鍍層假附著、掉膜、顏色不均等不良。

在離子真空鍍膜機(jī)鍍產(chǎn)品中美工處理方式往往不是單一的，而是多種作業(yè)組合，這更增加了鍍前清洗的困難。采用傳統(tǒng)的超聲去油除蠟的方法是不能勝任的，必須調(diào)整清洗工藝，對(duì)不同的污染，可選擇機(jī)械清除、氣相清洗﹑真空加熱后再清洗、陰極電解﹑陽極電解、或采用針對(duì)性的清洗劑等等。這些綜合措施可取得較好的效果，但對(duì)有些污染仍未找到理想的解決辦法。新近等離子體拋光方法應(yīng)用到鍍前清洗是值得關(guān)注的技術(shù)，該技術(shù)在某些鍍層的褪鍍?nèi)〉昧己眯Ч?/p>

新型磁控濺射真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝

磁控濺射真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝在鍍膜行業(yè)無處不在，只要說到鍍膜技術(shù)，大家都會(huì)立刻想到磁控鍍膜工藝，磁控濺射真空鍍膜機(jī)也受到了各大廠家的追捧，磁控濺射鍍膜工藝更是受到大家的喜愛，今天至成小編為大家介紹一下磁控濺射鍍膜機(jī)鍍膜工藝。

其實(shí)從一般的金屬靶材濺射、反應(yīng)濺射、偏壓濺射等,伴隨著工業(yè)需求及新型磁控濺射技術(shù)的出現(xiàn),低壓濺射、高速沉積、自支撐濺射沉積、多重表面工程以及脈沖濺射等新型工藝成為目前該領(lǐng)域的發(fā)展趨勢(shì)。低壓濺射的關(guān)鍵問題是在低壓(一般是指<011Pa)下,電子與氣體原子的碰撞幾率降低,在常規(guī)磁控濺射技術(shù)中不足以維持靶材表面的輝光放電,導(dǎo)致濺射沉積無法繼續(xù)進(jìn)行。通過優(yōu)化磁場(chǎng)設(shè)計(jì),使得電子空間運(yùn)動(dòng)距離延長,非平衡磁控濺射技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)在10-2Pa等級(jí)的真空下進(jìn)行濺射沉積。另外,通過外加電磁場(chǎng)約束電子運(yùn)動(dòng)可以實(shí)現(xiàn)更低壓強(qiáng)下的濺射沉積。進(jìn)行高速沉積可以極大的提高工作效率、減少工作氣體消耗以及獲得新型膜層。實(shí)現(xiàn)高速沉積主要需要解決的問題是在提高靶材電流密度的同時(shí),不會(huì)產(chǎn)生弧光放電;由于功率密度的提高,靶材、襯底的冷卻能力需要相應(yīng)提高等。目前,已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了靶材功率密度超過100W/cm2,沉積速率超過1μm/min。