壓力差的維持依靠新風(fēng)量，這個(gè)新風(fēng)量要能補(bǔ)償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風(fēng)量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風(fēng)量通過潔凈室的各種縫隙時(shí)的阻力?，F(xiàn)在我們國(guó)家的經(jīng)濟(jì)科技在發(fā)展，同時(shí)帶動(dòng)了社會(huì)各行各業(yè)在告訴發(fā)展中。以凈化工程這個(gè)行業(yè)為例，在目前呈現(xiàn)一片喜人的發(fā)展態(tài)勢(shì)。具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。

壓力差的維持依靠新風(fēng)量，這個(gè)新風(fēng)量要能補(bǔ)償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風(fēng)量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風(fēng)量通過潔凈室的各種縫隙時(shí)的阻力。凈化工程的一般施工程序：粉塵作業(yè)，無塵作業(yè)后，不允許交叉作業(yè)。 否則會(huì)影響項(xiàng)目的質(zhì)量。 也就是說，在完成所有粉塵產(chǎn)生操作之后，可以進(jìn)行無塵操作。相對(duì)濕度越高，粘附的難去掉，手術(shù)室凈化工程公司，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。

潔凈室中的溫濕度控制。潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到 人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來越嚴(yán)的趨勢(shì)。潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。潔凈度級(jí)別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級(jí)別低的空間的壓力。相通潔凈室之間的門要開向潔凈度級(jí)別高的房間"100級(jí)：是常用的凈化工程，除了對(duì)空氣中的塵埃數(shù)有要求，對(duì)空氣中細(xì)菌的濃度也有明確要求。一般用于醫(yī)行業(yè)進(jìn)行無菌制造，例如制造臨床用于植入人體內(nèi)的物品，藥生產(chǎn)。醫(yī)學(xué)科學(xué)實(shí)驗(yàn)也在此環(huán)境中，包括實(shí)驗(yàn)動(dòng)物飼養(yǎng)環(huán)境。

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